원시데이터
한국어 지식관계 원시데이터
문장별 주어·목적어·관계 목록 (server1). "가공데이터"를 누르면 해당 문서의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 특허 | A220517005461 | 의미 관리를 이용하는 언어 모델 적응 | 특허청 | 의약학 | 언어 처리 성능이 탁월하기 위해서는, 성능이 좋은 LM이 필수적이라고 알려져 있다. | 언어 처리 성능 | LM | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005461 | 의미 관리를 이용하는 언어 모델 적응 | 특허청 | 의약학 | 일반적으로 LM에서는, 테스트 데이터와 유사할 것으로 예상되는 상당량의 학습 데이터로부터 수집된 평활 n-그램 통계를 사용한다. | LM | 평활 n-그램 통계 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005500 | 휘도 보정 | 특허청 | 의약학 | 따라서, 사진술은 이런 광선의 기록을 포함한다. | 사진술 | 광선의 기록 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005500 | 휘도 보정 | 특허청 | 의약학 | 조명 조건이 불량할 때에는 조명이 충분한 조건에서 사진을 찍을 때와 비교하여 광경의 일부 정보가 결여된다. | 조명 조건 | 정보 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005500 | 휘도 보정 | 특허청 | 의약학 | 흐릿한 조명 조건에서 만족스런 사진을 찍는 것은 역사적으로 매우 어려운 문제를 제기하여 왔다. | 흐릿한 조명 조건 | 문제 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005500 | 휘도 보정 | 특허청 | 의약학 | 노출 부족은 일반적으로는 충분한 광량을 필름에 쪼여주지 못하기 때문에 일어난다. | 노출 부족 | 광량 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005500 | 휘도 보정 | 특허청 | 의약학 | 노출 부족은, 필름을 더 오랜 시간 노출시킴으로써, 예를 들어, 저속 셔터를 사용하여 셔터를 보다 오랫동안 개방함으로써 어느 정도는 보정될 수 있다. | 노출 부족 | 저속 셔터 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005500 | 휘도 보정 | 특허청 | 의약학 | 그러나, 낮은 셔터 속도는 흐림 현상을 낳는다. | 낮은 셔터 속도 | 흐림 현상 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 반도체 칩 제조 프로세스에서, 에칭, 세정, 건조, 및 도금과 같은 공정을 이용하여 웨이퍼를 프로세싱할 필요가 있음이 공지되어 있다. | 에칭 | 웨이퍼 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 이러한 유형의 공정들 각각에서, 일반적으로 액체는 에칭, 세정, 건조 및 도금 프로세스를 위해 제공되거나 또는 제거되는 유체이다. | 액체 | 에칭 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 예를 들어, 웨이퍼 세정은 제조 공정이 행해져 원치 않는 잔여물을 웨이퍼의 표면상에 남기는 곳에서 행해져야 한다. | 잔여물 | 웨이퍼 세정 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 이러한 제조 공정의 예는 플라즈마 에칭 및 화학적 기계적 연마를 포함한다. | 플라즈마 에칭 | 제조 공정 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | CMP 에서, 웨이퍼는 웨이퍼 표면을 이동 패드 쪽으로 미는 홀더 내에 위치한다. | CMP | 홀더 내 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 이 이동 패드는 화학물과 연마제로 이루어져 연마를 야기하는 슬러리를 사용한다. | 이동 패드 | 슬러리 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 불행하게도, 이 프로세스는 웨이퍼 표면에 슬러리 입자의 축적물 및 잔여물을 남기는 경향이 있다. | 슬러리 입자 | 웨이퍼 표면 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 웨이퍼 상에 원치 않는 잔여물 및 입자가 남는 경우, 이는, 웨이퍼 표면상의 스크레치 및 금속화 피쳐들 사이의 부적절한 상호 작용과 같은 결함을 초래할 수 있다. | 웨이퍼 표면 | 스크레치 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 몇몇 경우, 이러한 결함은 웨이퍼 상의 소자가 작동할 수 없게 할 수 있다. | 결함 | 작동 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005507 | 근접 메니스커스 분기관 | 특허청 | 의약학 | 웨이퍼가 습식 세정 된 후에, 웨이퍼는 웨이퍼 상에 남아있는 잔여물로부터 수분 또는 세정 유체 잔존물을 제거하기 위해 효율적으로 건조되어야 한다. | 습식 세정 | 건조 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005518 | 발광 장치, 전자 기기 및 텔레비젼 장치 | 특허청 | 전기전자 | 전기 광학 장치, 반도체 회로 및 전자 기기는 모두 반도체 장치이다. | 전기 광학 장치 | 반도체 장치 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220517005518 | 발광 장치, 전자 기기 및 텔레비젼 장치 | 특허청 | 전기전자 | 최근, 자발광형의 발광소자로서 EL 소자를 갖는 발광 장치의 연구가 활발히 이루어지고 있다. | EL 소자 | 자발광형의 발광소자 | isToBe | 가공데이터 |