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문서유형doc_id제목출처분야문장 주어목적어관계
특허 A220623015414 인쇄가능한 프레스넬 구조를 포함하는 성형된 자기장에인쇄된 동적 외관 변화 광학 장치 특허청 전기전자 광학적 가변 장치는 또한 자성 안료로 만들어질 수 있는데, 자성 안료를 표면 상에 도포한 후 자기장으로 안료를 배열시킴으로써 만들어질 수 있다. 광학적 가변 장치 자성 안료 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623015414 인쇄가능한 프레스넬 구조를 포함하는 성형된 자기장에인쇄된 동적 외관 변화 광학 장치 특허청 전기전자 광학적 가변 장치는 또한 자성 안료로 만들어질 수 있는데, 자성 안료를 표면 상에 도포한 후 자기장으로 안료를 배열시킴으로써 만들어질 수 있다. 광학적 가변 장치 안료를 배열 isMemberOf 가공데이터
특허 A220623015414 인쇄가능한 프레스넬 구조를 포함하는 성형된 자기장에인쇄된 동적 외관 변화 광학 장치 특허청 전기전자 그러나 자성 안료로 페인팅하는 것은 대부분 장식적 목적으로 사용되어 왔다. 자성 안료로 페인팅 장식적 목적 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623015414 인쇄가능한 프레스넬 구조를 포함하는 성형된 자기장에인쇄된 동적 외관 변화 광학 장치 특허청 전기전자 페인트 매체는 자기장 선을 따라 정렬되는, 분산된 비구형 자성 입자들을 갖는다. 페인트 매체 분산된 비구형 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623015414 인쇄가능한 프레스넬 구조를 포함하는 성형된 자기장에인쇄된 동적 외관 변화 광학 장치 특허청 전기전자 유사하게, 플루오로폴리머 매트릭스 내에 박편화된 자성 입자들의 패턴을 만드는 프로세스가 알려져 왔다. 자성 입자 플루오로폴리머 매트릭스 내 isPlaceOf 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 본 발명은 반도체 제조 기술에 관한 것으로, 특히 리페어 퓨즈 어택을 방지하기 위한 퓨즈 형성 방법이다. 반도체 제조 리페어 퓨즈 어택 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 반도체 소자의 제조시 수 많은 미세 셀 중에서 한개라도 결함이 있으면 메모리로서의 기능을 수행하지 못하므로 불량품을 처리된다. 불량품 결함 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 반도체 소자의 제조시 수 많은 미세 셀 중에서 한개라도 결함이 있으면 메모리로서의 기능을 수행하지 못하므로 불량품을 처리된다. 반도체 소자 메모리 isToBe 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 반도체 소자 제조 공정 중 결함이 발생할 경우 소자의 수율을 향상시킬 목적으로 소자 설계시 결함있는 소자 또는 회로를 대체하기 위하여 여분의 셀을 부가하며, 이러한 여분의 셀을 집적 회로에 접속시키기 위해 퓨즈를 함께 설계하고 있는데, 리페어 공정은 검사 공정 통해 불량으로 판명된 셀을 퓨즈를 사용하여 칩 내에 내장된 여분의 셀과 연결시켜 재생시키는 공정이다. 리페어 공정 재생시키는 공정 isA 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 반도체 소자 제조 공정 중 결함이 발생할 경우 소자의 수율을 향상시킬 목적으로 소자 설계시 결함있는 소자 또는 회로를 대체하기 위하여 여분의 셀을 부가하며, 이러한 여분의 셀을 집적 회로에 접속시키기 위해 퓨즈를 함께 설계하고 있는데, 리페어 공정은 검사 공정 통해 불량으로 판명된 셀을 퓨즈를 사용하여 칩 내에 내장된 여분의 셀과 연결시켜 재생시키는 공정이다. 리페어 공정 불량으로 판명된 셀 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 리페어 공정의 진행 메카니즘은, 불량이 발생된 셀을 리페어 시키기 위하여 퓨즈 영역을 오픈시킨 다음 해당되는 퓨즈를 레이저 블로잉을 이용하여 절단한다. 리페어 공정의 진행 메카니즘 퓨즈 영역 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 리페어 공정의 진행 메카니즘은, 불량이 발생된 셀을 리페어 시키기 위하여 퓨즈 영역을 오픈시킨 다음 해당되는 퓨즈를 레이저 블로잉을 이용하여 절단한다. 레이저 블로잉 리페어 공정의 진행 메카니즘 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 이 때, 제1금속배선은 셀영역의 플레이트 전극 형성시 플레이트 전극과 동일한 물질로 형성된다. 제1금속배선 셀영역 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 또한, 퓨즈 크랙에 따른 리페어 공정에 따른 불량이 유발되고, 이에 따라 소자의 신뢰성 및 제조 수율이 감소하게 된다. 리페어 공정 퓨즈 크랙 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623015474 반도체 소자의 퓨즈 및 그 형성 방법 특허청 의약학 또한, 퓨즈 크랙에 따른 리페어 공정에 따른 불량이 유발되고, 이에 따라 소자의 신뢰성 및 제조 수율이 감소하게 된다. 퓨즈 크랙 불량 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623015475 발광 다이오드 어레이와 그 제조방법 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리 및 액정표시장치 특허청 전기전자 한편, 액정표시장치의 대부분은 외부에서 들어오는 광원의 양을 조절하여 화상을 표시하는 수광성 소자이기 때문에 액정패널에 광을 조사하기 위한 별도의 광원, 즉 백라이트 어셈블리가 반드시 필요하다. 광원 액정표시장치 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623015475 발광 다이오드 어레이와 그 제조방법 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리 및 액정표시장치 특허청 전기전자 한편, 액정표시장치의 대부분은 외부에서 들어오는 광원의 양을 조절하여 화상을 표시하는 수광성 소자이기 때문에 액정패널에 광을 조사하기 위한 별도의 광원, 즉 백라이트 어셈블리가 반드시 필요하다. 액정표시장치 수광성 소자 isMemberOf 가공데이터
특허 A220623015475 발광 다이오드 어레이와 그 제조방법 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리 및 액정표시장치 특허청 전기전자 한편, 액정표시장치의 대부분은 외부에서 들어오는 광원의 양을 조절하여 화상을 표시하는 수광성 소자이기 때문에 액정패널에 광을 조사하기 위한 별도의 광원, 즉 백라이트 어셈블리가 반드시 필요하다. 액정표시장치 백라이트 어셈블리 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623015475 발광 다이오드 어레이와 그 제조방법 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리 및 액정표시장치 특허청 전기전자 상기 백라이트 어셈블리는 어두운 장소에서 액정표시장치의 화면에 표시되는 정보를 읽기 위한 기능으로 사용되어 왔으나, 최근에는 디자인, 저전력화, 박형화 등의 여러 가지 요구에 의하여 도광판을 보다 얇게 형성하고 있다. 도광판 백라이트 어셈블리 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623015475 발광 다이오드 어레이와 그 제조방법 및 이를 구비한 백라이트 어셈블리 및 액정표시장치 특허청 전기전자 상기 액정표시장치는 광원이 배치된 형태에 따라 에지형과 직하형으로 분류된다. 에지형 액정표시장치 isPartOf 가공데이터
14061–14080번째 행
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