원천데이터
한국어 지식관계 원천데이터
문장별 주어·목적어·관계 목록 (server1). "가공데이터"를 누르면 해당 문서의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 흡입 홀과 상기 배기 홀은 교대로 형성될 수 있다. | 흡입 홀 | 배기 홀 | isMemberOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 흡입 홀을 통해 공기, 예컨대 Ar 가스가 상부 방향으로 분사되고, 상기 배기 홀을 통해 상기 공기가 하부 방향으로 배출된다. | 흡입 홀 | 상부 방향 | hasAttribute | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 흡입 홀을 통해 공기, 예컨대 Ar 가스가 상부 방향으로 분사되고, 상기 배기 홀을 통해 상기 공기가 하부 방향으로 배출된다. | 배기 홀 | 하부 방향 | hasAttribute | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 지지플랫폼은 챔버 내에 구비될 수 있다. | 지지플랫폼 | 챔버 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 흡입 홀을 통해 분사된 공기에 의해 대상물, 예컨대 기판이 상부 방향으로 부양될 수 있다. | 흡입 홀 | 기판 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 흡입 홀을 통해 나온 공기는 상기 배기 홀을 통해 배출됨으로써, 상기 지지플랫폼 상의 공기 압력이 지속적으로 증가되는 것을 방지하여 지지플랫폼이 소정 높이로 부양되어 유지될 수 있다. | 배기 홀 | 배출 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 이에 반해, 지지플랫폼의 에지 영역에는 흡입 홀을 통해 분사된 공기가 배기 홀 이외에 지지플랫폼과 기판 사이를 통해 외부로 배출될 수 있으므로, 압력이 증가하지 않는다. | 에지 영역 | 지지플랫폼 | isMemberOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 이에 반해, 지지플랫폼의 에지 영역에는 흡입 홀을 통해 분사된 공기가 배기 홀 이외에 지지플랫폼과 기판 사이를 통해 외부로 배출될 수 있으므로, 압력이 증가하지 않는다. | 흡입 홀 | 기판 | isMemberOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 특히, 박막을 형성하기 위한 스퍼터링 장치는 반도체 소자나 LCD를 제조하기 위해서 빠뜨릴 수 없는 필수적인 장치이다. | 반도체 소자 | 스퍼터링 장치 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017073 | 비접촉 반송 장치 | 특허청 | 전기전자 | 특히, 박막을 형성하기 위한 스퍼터링 장치는 반도체 소자나 LCD를 제조하기 위해서 빠뜨릴 수 없는 필수적인 장치이다. | LCD | 스퍼터링 장치 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 반도체 웨이퍼와 LCD 기판과 같이 처리될 기판은 성막공정 및 에칭공정과 같은 다수의 처리공정을 반복적으로 수행하여 완성된다. | 반도체 웨이퍼 | 성막공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 반도체 웨이퍼와 LCD 기판과 같이 처리될 기판은 성막공정 및 에칭공정과 같은 다수의 처리공정을 반복적으로 수행하여 완성된다. | 반도체 웨이퍼 | 에칭공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 반도체 웨이퍼와 LCD 기판과 같이 처리될 기판은 성막공정 및 에칭공정과 같은 다수의 처리공정을 반복적으로 수행하여 완성된다. | LCD 기판 | 성막공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 반도체 웨이퍼와 LCD 기판과 같이 처리될 기판은 성막공정 및 에칭공정과 같은 다수의 처리공정을 반복적으로 수행하여 완성된다. | LCD 기판 | 에칭공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 특히, 박막을 형성하기 위한 스퍼터링 장치는 반도체 소자나 LCD를 제조하기 위해서 빠뜨릴 수 없는 필수적인 장치이다. | 스퍼터링 장치 | 반도체 소자 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 특히, 박막을 형성하기 위한 스퍼터링 장치는 반도체 소자나 LCD를 제조하기 위해서 빠뜨릴 수 없는 필수적인 장치이다. | 스퍼터링 장치 | LCD | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 현재, 상기 스퍼터링 장치는 패널의 사이즈가 증가하고 공정이 복잡하며 또한 대량으로 생산하는 측면에서 로봇을 이용한 자동화 처리가 일반적이다. | 스퍼터링 장치 | 로봇 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 스퍼터링 장치는 클러스터형과 인라인형으로 분류된다. | 클러스터형 | 스퍼터링 장치 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 스퍼터링 장치는 클러스터형과 인라인형으로 분류된다. | 인라인형 | 스퍼터링 장치 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623017074 | 비접촉 반송 장치 및 기판의 위치 제어 방법 | 특허청 | 의약학 | 클러스터형 스퍼터링 장치에서는 각 챔버 유닛 사이에서 기판이 수평으로 반송된다. | 클러스터형 스퍼터링 장치 | 챔버 유닛 | isUsedFor | 가공데이터 |