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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019890015615 | 13 | 4 | <ANY>제1의 교차점과 대상물 사이에 설비되어 제1의 교차점에 집속됐든 하전입자 빔을 광축위에 위치하는 제2의 교차점 위</ANY><RELATION_26158>에 집속하는</RELATION_26158> <COMPONENT>제2의 집속수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 13 | 5 | <ANY>제2의 집속수단에 의해서 집속된 하전입자 빔</ANY><RELATION_403190>을 대상물상부에서 빔이 이동되게 편향시키는</RELATION_403190> <COMPONENT>빔 편향 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 13 | 6 | <ANY>대상물</ANY><RELATION_46>을 지지하는</RELATION_46> <COMPONENT>스테이지 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 13 | 7 | <ANY>상기 제1의 전자렌즈와 제2의 전자렌즈사이에 설비되어 하전입자 빔을 차단하고 하전입자가 통과할때에 빔을 소정의 형태로 성형시키기 위하여 복수의 애퍼춰</ANY><RELATION_6>를 구비한</RELATION_6> <COMPONENT>마스크 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 13 | 8 | <ANY>하전입가 빔이 마스크 수단위에 애퍼춰중의 선택된 애퍼춰를 통과하도록 하전입자 빔을 선택적으로 편향시키고 제1의 전자렌즈와 마스크 수단 사이에 설비되어 하전입자 빔을 광축에서 떨어지게 편향시키는 제1의 정전 편향기와, 제1의 정전편향기와 마스크수단 사이에 설비되어 제1의 정전편향기에 의해서 편향된 하전 입자 빔을 빔이 광축에 대해서 평행으로 진행되어 마스크 수단에 수직으로 입사되게 편향시키는 제2의 정전편향기와, 마스크 수단에 제2의 전자렌즈사이에 설비되어 마스크 수단위에 애퍼춰를 통과한 하전입자 빔을 광축을 향해서 편향시키는 제3의 정전편향기와, 제3의 정전편향기와 제2의 전자렌즈사이에 설비되어 제3의 정전편향기에 의해서 편향된 하전입자 빔을 빔이광축위로 진행되도록 편향시키는 제4의 정전편향기</ANY>를 <COMPONENT>포함하는 어드레스 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 13 | 9 | <RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>대상물 위에 하전입자 빔에 의해서 패턴을 그리는 하전입자 빔 리소그래피 시스템</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 1 | <ANY>하전입자 빔을 생성시켜 대상물을 향하여 소정의 광축</ANY><RELATION_403191>에 따라서 진행하도록 인도하는</RELATION_403191> <COMPONENT>빔 소오스 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 2 | <ANY>상기 하전입자 빔에 소정의 단면을 제공하기 위하여 상기 하전입자 빔의 진행경로</ANY><RELATION_43922>에 설비된</RELATION_43922> <COMPONENT>빔성형수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 3 | <ANY>상기 광축위에 위치한 제1의 교차점 위에 있는 상기 빔 성형수단으로부터 공급되는 하전입자 빔의 위치 맞춤을 위하여 상기 빔성형수단과 대상물사이</ANY><RELATION_43922>에 설비된</RELATION_43922> <COMPONENT>제1의 집속수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 4 | <ANY>상기 제1의 교차점에 집속됐든 하전입자 빔을 광축위에 위치한 제2의 교차점에 집속하기 위하여 제1의 교차점과 대상물 사이</ANY><RELATION_43922>에 설비된</RELATION_43922> <COMPONENT>제2의 집속수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 5 | <ANY>상기 제2의 집속수단에 의해서 집속된 하전입자 빔</ANY><RELATION_403192>을 대상물 상부로 이동되도록 편향시키는</RELATION_403192> <COMPONENT>빔 편향수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 6 | <ANY>대상물</ANY><RELATION_46>을 지지하는</RELATION_46> <COMPONENT>스테이지 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 7 | <ANY>하전입자 빔을 차단하기 위하여 상기 제1의 집속 수단 근방에 광축에 실질적으로 수직으로 연장되어 설비되고 하전입자 빔이 통과할때에 소정의 형태를 빔에 제공하기 위한 애퍼춰</ANY><RELATION_614>를 구비하고 있는</RELATION_614> <COMPONENT>마스크 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890015615 | 1 | 8 | <ANY>하전입자 빔의 마스크위의 애퍼춰중의 선택된 애퍼춰를 통과하도록 하전입자 빔을 선택적으로 편향시키고 하전입자 빔의 가변성형을 위하여 상기 마스크수단위의 소정의 애퍼춰를 통과하도록 하전입자 빔을 편향시키는 정전편향기와 적어도 상기 정전편향기에 의한 편향각보다도 큰 편향각으로 상기 애퍼춰중의 선택된</ANY> <COMPONENT>애퍼춰</COMPONENT><RELATION_617131>를 선택적으로 통과하도록 편향시키는</RELATION_617131> 적어도 하나의 전자편향기<RELATION_SEP>를 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>어드레스 수단으로된 하전입자 빔에 의해서 대상물위에 패턴을 그리는 하전입자 빔 리소그래피 시스템</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890016187 | 10 | 1 | <ANY>카메라의 주본체를 구비한 칼레 텔레비젼 카메라</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890016187 | 10 | 2 | <ANY>다수의 고상 영상 센서와, 샘플링 비율 fs에 일치하는 클록 비율에서 샘플링 비율 fs에서 상기 고상 영상 센서로부터 판독된 영상 픽업 출력 신호를 다지탈화하기 위한 아나로그 대 디지탈 변환 수단과, 상기 아나로그 대 디지탈 변환 수단의 디지탈 출력 신호를 처리하기 위한 신호 처리 수단과, 사기 신호 처리 수단으로부터 출력 신호로 공급되고, 2fs의 클록 비율에서 디지탈 합성 비데오 신호를 산출하는데 적합한 디지탈 칼라 엔코더와, 2fs의 클록 비율에서 상기 디지탈 합성 비데오 신호를 출력하기 위한 출력 단자와, 카메라의 상기 주본체에 분리 접속돤 카메라 아답터와, 상기 주본체의 출력 단자로부터 상기 디지탈 저역 통과 필터의 출력으로 공급되고, 클록 비율을 fs로 감소시키는데 적합한</ANY> <COMPONENT>비율 변환 수단</COMPONENT><RELATION_6>을 구비한</RELATION_6> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>칼라 텔레비젼 카메라</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890016788 | 1 | 1 | <ANY>비교적 작은 칩 부품등의 장착 이동을 위한 표면 실장기계의 헤드를 구성함</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890016788 | 1 | 2 | <ANY>상, 하부 각가에 플랜지(11)와 하우징(12)으로 밀폐 설치된 실린더실 내부에는 피스톤(13)이 내설됨과 동시에 일축 소정위치에는 상기 피스톤 상부 및 하부로의 압축공기 유입용 포트(a,b)와 진공압 유입용 포트(c)</ANY><RELATION_6>를 구비한</RELATION_6> <COMPONENT>실린더부(1)</COMPONENT>와 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890016788 | 1 | 3 | <ANY>상부 소정위치에 멈춤링(21d)으로 하부에 스프링체(21e)를 탄설한 연동샤프트(21)를 내설하는 작동 샤프트(23)가 상기 하우징(12)과 플랜지(11)에 관통되어 피스톤(13)에 멈춤링(23b)으로 관통 고정되고 상기 작동 샤프트를 내설하여 하우징(12)에 삽입 멈춤링(24b)으로 결합된 회전샤프트(24)</ANY><RELATION_6>를 구비한</RELATION_6> <COMPONENT>칩 장착부(2)</COMPONENT>와 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019890016788 | 1 | 4 | <ANY>상기연동 및 작동 샤프트(21,23)와 회전 샤프트(24)</ANY><RELATION_183>를 회전시키는</RELATION_183> <COMPONENT>회전부(3)</COMPONENT>와 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |