원시데이터
특허 지식베이스 원시데이터
청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019950017666 | 1 | 4 | <ANY>상기 선택적인 재생모드시 상기 제1 또는 제2방송신호의 재생동작에 따른 화질보정</ANY><RELATION_45>을 행하는</RELATION_45> <COMPONENT>화질보정부(16)</COMPONENT> 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950017666 | 1 | 5 | <ANY>상기 예약녹화모드시 동일시간대의 제1 및 제2예약녹화테이터가 검출되면 상기 제1 및 제2예약녹화데이터의방송신호가 비디오테이프상에 동시에 기록되도록 제어함과 더불어 상기 선택적인 재생모드시 상기 제1 및 제2방송신호 중 선택된 방송신호에 대한 재생이 행해지도록 제어하는</ANY> <COMPONENT>제어부(12)</COMPONENT><RELATION_36>를 포함하여 구성된</RELATION_36> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>2-튜너식 텔레비디오의 복수예약채널 녹화/재생제어장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 7 | 1 | <ANY>이온주입기(10)에서 사용하기 위한 이온 빔 중화기(150)</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 7 | 2 | <ANY>a)장력하에 서로에 대해 끝과 끝이 지지되는 다수의 축방향</ANY><RELATION_409710>으로 세장된</RELATION_409710> <COMPONENT>필라멘트(210a~210f)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 7 | 3 | <ANY>b)전자들이 필라멘트를 떠난 후, 필라멘트로부터 방출된 전자들을 반사된 궤저을 따라 이온 빔(20)내로 직진시키기 위한 다수의 축방향으로 세장된 필라멘트의 길이를 따라 지지되고 부분적으로 필라멘트를 감싸는 축방향</ANY><RELATION_409709>으로 세장된 활모양의 세장된</RELATION_409709> <COMPONENT>반사기(226)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 7 | 4 | <ANY>c)필라멘트로부터 방출된 전자들이 그리드와 반사기 사이에 만들어지는 전기장에 의해 전자들이 반사되는 그리드 와 반사기 사이의 영역내로 들어가게 하기 위한 간격을 포함하는 만곡된 그리드 부분</ANY><RELATION_409707>을 반사기의 내측으로 방사상으로 한정하는</RELATION_409707> <COMPONENT>제1전기전도 그리드(220)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 7 | 5 | <ANY>d)필라멘트, 그리드및 반사기를 이격된 관계로 지지하고 상기 필라멘트, 그리드 및 반사기를 양극으로 한정된 움직이는 이온들의 이온빔</ANY><RELATION_409706>에 대해 위치시키기 위한</RELATION_409706> <COMPONENT>지지부재(162,154,155)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 7 | 6 | <ANY>및 e) 축방향으로 세장된 필라멘트에 전자방출전류를 형성하고,</ANY> <COMPONENT>전자반사기와 전기적 전도 그리드</COMPONENT><RELATION_409705>를 바이어싱시키기 위한</RELATION_409705> 파우어 스플라이(200)<RELATION_SEP>를 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>것이 특징인 이온 빔 중화기</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 1 | <ANY>피작업재의 이온 빔 처리를 위한 이온 주입기(10)로서 a)피작업재를 처리하는데 사용된 양극으로 하전된 이온들</ANY><RELATION_185>을 방출하는</RELATION_185> <COMPONENT>이온 빔소오스(12)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 2 | <ANY>b) 이온 빔소오스를 떠나는 이온으로부터 이온 빔(20)을 형성시키기 위한 구조</ANY><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> <COMPONENT>빔 형성수단(80,14)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 3 | <ANY>c) 이온 빔내에 피작업재를 위치시키기 위한 구조(40)</ANY><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> <COMPONENT>주입 스테이션(22)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 4 | <ANY>및 d) 피작업재에 충돌하는 이온의 적용량을 제어하고 이온 빔 전류를 감시하기 위한</ANY> <COMPONENT>제어기(82)</COMPONENT><RELATION_105205>를 포함하는 이온주입기에 있어서</RELATION_105205> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 5 | <ANY>ⅰ) 이온 빔내로 전자들을 반사시키기 위해 내측으로 대면하는 만곡된 표면</ANY><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>전기적 전도필드 한정반사기(226)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 6 | <ANY>ⅱ) 반사기 근처영역내로 반사기를 향해 이동하고 이온 빔을 향해 편향되는 중성화 전자들</ANY><RELATION_5820>을 방출시키기 위한</RELATION_5820> <COMPONENT>전자소오스(210a~210f)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 7 | <ANY>ⅲ) 전자들이 상기 반사기에 의해 이온 빔을 향해 반사되는 영역에 전자들이 도달하기전에 소오스로부터의 전자들</ANY><RELATION_15180>을 가속시키기 위한</RELATION_15180> <COMPONENT>전도필드 한정부재(220,224)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 1 | 8 | <ANY>및 ⅳ) 전자들이 반사기로부터 반사되어 떨어진 후이지만 그러나</ANY> <COMPONENT>전자들이 이온 빔내로 들어가기전에 전자들</COMPONENT><RELATION_28450>을 감속시키기 위한</RELATION_28450> 전도수단(230,162a,162b)<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>빔 중화기(150)가 특징인 이온 주입기</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 5 | 1 | <ANY>이온주입기에 사용하기 위한 이온 빔 중화기(150)</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 5 | 2 | <ANY>a)제어된 전위로 유지되고, 빔내 전자들이 금속몸체를 지나 이동할 때 이온 빔(20)내에 전자들을 반사시키기 위한 위치로 지지되는 만곡된 편향표면</ANY><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>금속몸체(226)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 5 | 3 | <ANY>b) 금속몸체에 대해 기계적으로 고정되고 상기 금속몸체로부터 전기적으로 절연되는 하나 또는 그 이상의 신장된 전자방출 필라멘트(210a~210f ;c ) 필라멘트에 의해 발생된 1차 전자들을 금속몸체의 만곡된 편향표면부분으로 직진시키기 위해 각 필라멘트와 결합된 1차 전자직진수단(220) d) 하나 또는 그 이상의 필라멘트에 대해 금속몸체</ANY><RELATION_4451>를 위치시키기 위한</RELATION_4451> <COMPONENT>지지 구조물 (162,154,155)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019950018842 | 5 | 4 | <ANY>및 e) 금속몸체에 대해 음전위로 전자방출 필라멘트를 바이어싱시키고, 전자들을 방출시키도록 필라멘트를 충분히 가열시키기 위한 전류를 만들기 위해 필라멘트를 가로질러</ANY> <COMPONENT>전위</COMPONENT><RELATION_11386>를 인가시키기 위한</RELATION_11386> 파우어 스플라이(220)가 특징이고 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |