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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019960043374 | 1 | 1 | <ANY>1개 이상의 하기 일반식(1) 또는 (2)의 반복 사슬 단위 및 임의로 하기 일반식(3)의 반복 단위</ANY><RELATION_237>를 함유하고</RELATION_237>, <COMPONENT>일반식(1) 또는 (2)의 구조 단위의 비율이 각각 0.5 내지 100몰%, 일반식(3)의 구조 단위의 비율이 0 내지 99.5몰%이며, 이 몰 백분율이 100 이하인 (공)중합체</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043374 | 1 | 2 | <ANY>상기 식에서, r 1 , r 2 , r 3 은 서로 독립적으로 수소 또는 c 1 -c 6 알킬을 나타내고, m은 cn, 또는 각각 히드록시 또는 c 1 -c 6 알콕시카르보닐에 의해 치환될 수 있는, c 1 -c 30 알콕시카르보닐, c 1 -c 30 (디)알킬아미노카르보닐, c 1 -c 30 알킬카르보닐을 나타내며, 또한 각각 할로겐, 히드록시, 실릴, c 1 -c 30 알킬, c 6 -c 18 아릴, c 1 -c 30 알콕시, c 1 -c 30 알콕시카르보닐, c 1 -c 30 아실옥시 및</ANY> <COMPONENT>c 1 -c 30 알킬카르보닐</COMPONENT><RELATION_SEP>로 이루어지는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>군으로부터 선택된 기에 의해 치환될 수 있는, 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 피리딜 또는 카르바졸릴을 나타내고, l 1 및 l 2 는 발광 잔기를 나타낸다</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043943 | 1 | 1 | <COMPONENT>피형 기판과</COMPONENT>; | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043943 | 1 | 2 | <ANY>상기 피형 기판의 상부</ANY><RELATION_414677>를 에피택셜 성장시켜 형성하는</RELATION_414677> <COMPONENT>에피층</COMPONENT>과 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043943 | 1 | 3 | <ANY>상기 에피층을 침투하여 피형 기판의 상부까지 엔형 이온</ANY><RELATION_8240>을 주입하여 형성하는</RELATION_8240> <COMPONENT>엔형 매립층</COMPONENT>과 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043943 | 1 | 4 | <ANY>상기 에피층을 침투하여 상기 매립층이 형성되지 않은 부분의 피형 기판 상부까지 고농도 피형 이온을 주입함으로써, 트랜지스터 영역과 패드 영역</ANY><RELATION_323>으로 분리하는</RELATION_323> <COMPONENT>아이솔레이션층과</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043943 | 1 | 5 | <ANY>상기 트랜지스터 영역의 에피층 상부에 피형 이온을 주입하여 피엔피 트랜지스터의 이미터와 컬렉터, 엔피엔 트랜지스터의 베이스</ANY><RELATION_20>를 형성하는</RELATION_20> <COMPONENT>피형층</COMPONENT>과 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043943 | 1 | 6 | <ANY>고농도 엔형 이온을 주입함으로써, 트랜지스터 영역 중에서 피형 이온이 주입되지 않은 영역인 상기 에피층의 상부에 피엔피 트랜지스터의 베이스와 엔피엔 트랜지스터의 컬렉터를 공통으로 형성하고, 상기 피엔피 트랜지스터의 컬렉터인 피형층의 상부에 엔피엔 트랜지스터의 이미터에 해당하는</ANY> <COMPONENT>고농도 엔형층</COMPONENT><RELATION_60>을 포함하여 이루어지는</RELATION_60> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>정전기 보호용 피엔피 입력 트랜지스터의 구조</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043975 | 1 | 1 | <ANY>화학기상증착반응이 수행되는 챔버내의 중앙에 증착을 수행하고자 하는 웨이퍼를 올려놓는 서셉터와, 상기 서셉터를 중심으로 미반응가스와 반응부산물이 통과하는 진공채널 및 상기 진공채널에 연결되어 상기 챔버의 후방에 형성된 하나의 후방진공포트를 포함하여 이루어진 화학기상증착장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960043975 | 1 | 2 | <ANY>상기 진공채널의 양측에 상기 후방진공포트와 일정각도 이상으로 이격되도록 하여</ANY> <COMPONENT>적어도 2개 이상의 측방진공포트</COMPONENT><RELATION_2002>를 형성시켜서</RELATION_2002> 이루어짐<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>다수의 진공포트를 구비한 반도체 제조용의 화학기상증착장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 1 | <ANY>화학용액</ANY><RELATION_3183>이 담긴</RELATION_3183> <COMPONENT>액조</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 2 | <ANY>일단부가 상기 액조의 바닥 위에 위치하고 상기 액조 내에 화학용액</ANY><RELATION_414726>을 공급 및 보충시키기 위한</RELATION_414726> <COMPONENT>제1 공급 배관</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 3 | <ANY>상기 제1 공급 배관의 타단부와 연결되고 화학용액</ANY><RELATION_91212>을 강제로 순환시키기 위한</RELATION_91212> <COMPONENT>펌프</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 4 | <ANY>일단부가 상기 화학용액에 담겨지고 타단부가 상기 펌프와 연결되어 액조 내의 화학용액</ANY><RELATION_6260>을 배기시키기 위한</RELATION_6260> <COMPONENT>배기관</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 5 | <ANY>상기 제1 공급 배관의 중간부분에 직렬</ANY><RELATION_18399>로 개재시킨</RELATION_18399> <COMPONENT>제1 및 제2 여과기</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 6 | <ANY>일단부가 상기 제1 및 제2 여과기의 출력부와 연결되도록 분리된 형태를 가지면서 타단부가 상기 액조 내</ANY><RELATION_3417>에 위치하도록 설치된</RELATION_3417> <COMPONENT>제2 공급 배관</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 7 | <ANY>일단부가 상기 제2 여과기와 상기 액조 사이의 제1 공급 배관의 중간부분과 연결되고 타단부가 상기 제2 공급 배관의 중간부분</ANY><RELATION_55>과 연결된</RELATION_55> <COMPONENT>제3 공급 배관</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 8 | <ANY>상기 제3 공급 배관의 중간부분</ANY><RELATION_166>에 개재된</RELATION_166> <COMPONENT>내열유리관</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 9 | <ANY>상기 내열유리관의 양단과 상기 제3 공급 배관 사이</ANY><RELATION_29>에 설치된</RELATION_29> <COMPONENT>제1 및 제2 에어밸브</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019960044379 | 1 | 10 | <ANY>상기 내열유리관</ANY><RELATION_414725>을 향하여 서로 마주보도록 설치된</RELATION_414725> <COMPONENT>레이저 발광부 및 레이저 수광부</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |