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문서유형doc_id제목출처분야문장 주어목적어관계
특허 A220517003804 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 특허청 전기전자 특히 리버싱 벨트 콘베이어는 헤드 풀리와 테일 풀리 사이에 감겨진 벨트의 이송 방향을 변경하여 설치될 수 있는 데, 벨트의 길이가 연장될수록 적재물에 의한 처짐 현상이 발생하므로 벨트의 하부에 다수의 캐리어 롤러와 다수의 리턴 롤러를 설치하여 벨트를 지지하게 된다. 캐리어 롤러 리턴 롤러 isToBe 가공데이터
특허 A220517003804 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 특허청 전기전자 이러한 리버싱 벨트 콘베이어는 벨트를 회전시키는 과정에서 힘의 불균형 또는 적재물에 의한 무게중심의 변화로 인하여 벨트의 사행이 발생될 수 있다. 리버싱 벨트 콘베이어 사행 isToBe 가공데이터
특허 A220517003804 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 특허청 전기전자 벨트의 사행이 발생되면 벨트의 사행을 조정하게 되는 데, 벨트가 진행되어오는 방향을 향해서 좌측으로 편중되면 롤러가 설치된 스탠드를 우측으로 돌려서 먼저 접촉되도록 함으로써 롤러가 먼저 접촉되는 측으로 벨트가 이동되도록 한다. 롤러 스탠드 isToBe 가공데이터
특허 A220517003804 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 특허청 전기전자 그러나 이러한 작업을 벨트의 사행이 발생될 때마다 반복해서 실시해야 하므로 벨트의 사행 조정이 어려운 문제점이 있다. 벨트 사행 조정 isToBe 가공데이터
특허 A220517003804 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 특허청 전기전자 또한 정역방향으로 반복해서 움직이는 벨트 콘베이어의 경우에는 벨트의 정방향 이동에서 역방향 이동으로 방향을 전환하여 작동할 때 벨트의 사행이 가중되는 문제점이 있다. 벨트 콘베이어 정역방향 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 일반적으로 산업용으로 사용되는 모든 강판은 녹을 방지하기 위해 스트립 표면에 오일을 도포하여 유막을 형성함으로써 외부의 환경으로부터 내식성을 추구하고 프레스 등 가공시 윤활성을 향상시켜 강판의 균열을 방지하게 되어 오일 도포작업을 실시한다. 강판 오일 도포작업 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 이러한 스트립 표면에 오일을 도포함으로써, 외부의 환경으로부터 내식성을 추구하고 프레스 등 가공시 윤활성을 향상시킴으로 강판의 균열을 방지한다. 스트립 표면 오일 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 전술한 종래 오일러 장치의 작동을 보다 상세하게 설명하면, 도 1에 도시된 바와 같이, 스트립 표면의 상하측에는 오일 도포를 위한 오일러 롤이 장착된다. 스트립 표면 오일러 롤 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 그리고, 오일러 롤의 상측에는 다수개의 밸브가 마련되는 수평 오일라인이 구비된다. 오일러 롤 수평 오일라인 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 이러한 수평 오일라인의 밸브는 오일 노즐을 통하여 오일러 롤에 오일이 분사되도록 한다. 밸브 오일 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 이어서, 오일러 롤은 스트립의 상하측에서 적절한 압력을 가하면서 회전됨으로 스트립 표면에 오일을 도포하게 된다. 스트립 표면 오일 isToBe 가공데이터
특허 A220517003807 오일 균등 분사장치 특허청 기계공학 이러한 오일러 롤에 오일 찌꺼기 등이 누적됨에 의한 오목한 오일 자국이 형성됨으로, 오일의 도포가 균일하게 되지 않고 스트립 표면에 오일 줄형상을 띠게 되는 문제점이 있다. 오일 찌꺼기 오일 줄형상 isToBe 가공데이터
특허 A220517003810 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 특허청 의약학 현재, 반도체 소자가 점점 고집적화 되면서, 반도체 장치의 제조 기술의 발달과 메모리 소자의 응용 분야가 확장되고 있기 때문에, 대용량의 메모리 소자를 제조하기 위한 방법의 개발이 필수로 요구되고 있다. 반도체 소자 메모리 소자 isToBe 가공데이터
특허 A220517003810 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 특허청 의약학 이를 개선하고자, 종래 일반적인 BLC 형성 공정 전에 소자분리영역 상부에 식각 정지막인 질화막을 형성하여 소자분리영역의 손상을 방지하고자 한다. 질화막 손상 isToBe 가공데이터
특허 A220517003810 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 특허청 의약학 이를 개선하고자, 종래 살리사이드 공정 전에 상기 포토다이오드 부분에 살리사이드 공정 방지막인 HLD 산화막을 형성한다. 포토다이오드 HLD 산화막 isToBe 가공데이터
특허 A220517003810 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 특허청 의약학 상기 도 1a의 게이트 전극을 포함하는 결과물 전면에 600Å 두께의 HDP 산화막을 형성한다. 600Å 두께 HDP 산화막 isToBe 가공데이터
특허 A220517003810 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 특허청 의약학 또한, 로직 부분에서도 두꺼운 두께의 상기 식각 정지막에 대한 식각 공정을 수행하는 동안 웨이퍼의 변동 사항에 의하여 웨이퍼 중앙 부분과 외부 부분에서 약 150Å 두께가 차이난다. 식각 정지막 식각 공정 isToBe 가공데이터
특허 A220517003810 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 특허청 의약학 이에 본 발명자들은 활발한 연구 결과 고가의 장비 개발 없이도 상기한 종래의 문제점을 개선할 수 있는 새로운 개념의 BLC 형성 방법을 개발하여 본 발명을 완성하였다. BLC 형성 방법 고가 isToBe 가공데이터
특허 A220517003818 블랙매트릭스와 이를 포함하는 액정표시장치 특허청 전기전자 일반적으로, 액정표시장치는 액정분자의 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표현하는 것으로, 전계가 인가되면 액정의 배열이 달라지고 달라진 액정의 배열 방향에 따라 빛이 투과되는 특성 또한 달라진다. 액정표시장치 화상 isToBe 가공데이터
특허 A220517003818 블랙매트릭스와 이를 포함하는 액정표시장치 특허청 전기전자 상기 박막트랜지스터는 게이트 전극과, 게이트 전극의 상부에 게이트 절연막을 사이에 두고 구성된 반도체층과, 반도체층의 상부에 이격되어 구성된 소스 전극과 드레인 전극을 포함 한다. 박막트랜지스터 게이트 절연막 isToBe 가공데이터
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