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| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
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| 특허 | A220517003804 | 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 | 특허청 | 전기전자 | 특히 리버싱 벨트 콘베이어는 헤드 풀리와 테일 풀리 사이에 감겨진 벨트의 이송 방향을 변경하여 설치될 수 있는 데, 벨트의 길이가 연장될수록 적재물에 의한 처짐 현상이 발생하므로 벨트의 하부에 다수의 캐리어 롤러와 다수의 리턴 롤러를 설치하여 벨트를 지지하게 된다. | 캐리어 롤러 | 리턴 롤러 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003804 | 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 | 특허청 | 전기전자 | 이러한 리버싱 벨트 콘베이어는 벨트를 회전시키는 과정에서 힘의 불균형 또는 적재물에 의한 무게중심의 변화로 인하여 벨트의 사행이 발생될 수 있다. | 리버싱 벨트 콘베이어 | 사행 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003804 | 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 | 특허청 | 전기전자 | 벨트의 사행이 발생되면 벨트의 사행을 조정하게 되는 데, 벨트가 진행되어오는 방향을 향해서 좌측으로 편중되면 롤러가 설치된 스탠드를 우측으로 돌려서 먼저 접촉되도록 함으로써 롤러가 먼저 접촉되는 측으로 벨트가 이동되도록 한다. | 롤러 | 스탠드 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003804 | 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 | 특허청 | 전기전자 | 그러나 이러한 작업을 벨트의 사행이 발생될 때마다 반복해서 실시해야 하므로 벨트의 사행 조정이 어려운 문제점이 있다. | 벨트 | 사행 조정 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003804 | 리버싱 벨트 콘베이어의 벨트 사행 조정장치 | 특허청 | 전기전자 | 또한 정역방향으로 반복해서 움직이는 벨트 콘베이어의 경우에는 벨트의 정방향 이동에서 역방향 이동으로 방향을 전환하여 작동할 때 벨트의 사행이 가중되는 문제점이 있다. | 벨트 콘베이어 | 정역방향 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 일반적으로 산업용으로 사용되는 모든 강판은 녹을 방지하기 위해 스트립 표면에 오일을 도포하여 유막을 형성함으로써 외부의 환경으로부터 내식성을 추구하고 프레스 등 가공시 윤활성을 향상시켜 강판의 균열을 방지하게 되어 오일 도포작업을 실시한다. | 강판 | 오일 도포작업 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 이러한 스트립 표면에 오일을 도포함으로써, 외부의 환경으로부터 내식성을 추구하고 프레스 등 가공시 윤활성을 향상시킴으로 강판의 균열을 방지한다. | 스트립 표면 | 오일 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 전술한 종래 오일러 장치의 작동을 보다 상세하게 설명하면, 도 1에 도시된 바와 같이, 스트립 표면의 상하측에는 오일 도포를 위한 오일러 롤이 장착된다. | 스트립 표면 | 오일러 롤 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 그리고, 오일러 롤의 상측에는 다수개의 밸브가 마련되는 수평 오일라인이 구비된다. | 오일러 롤 | 수평 오일라인 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 이러한 수평 오일라인의 밸브는 오일 노즐을 통하여 오일러 롤에 오일이 분사되도록 한다. | 밸브 | 오일 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 이어서, 오일러 롤은 스트립의 상하측에서 적절한 압력을 가하면서 회전됨으로 스트립 표면에 오일을 도포하게 된다. | 스트립 표면 | 오일 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003807 | 오일 균등 분사장치 | 특허청 | 기계공학 | 이러한 오일러 롤에 오일 찌꺼기 등이 누적됨에 의한 오목한 오일 자국이 형성됨으로, 오일의 도포가 균일하게 되지 않고 스트립 표면에 오일 줄형상을 띠게 되는 문제점이 있다. | 오일 찌꺼기 | 오일 줄형상 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003810 | 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 | 특허청 | 의약학 | 현재, 반도체 소자가 점점 고집적화 되면서, 반도체 장치의 제조 기술의 발달과 메모리 소자의 응용 분야가 확장되고 있기 때문에, 대용량의 메모리 소자를 제조하기 위한 방법의 개발이 필수로 요구되고 있다. | 반도체 소자 | 메모리 소자 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003810 | 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 | 특허청 | 의약학 | 이를 개선하고자, 종래 일반적인 BLC 형성 공정 전에 소자분리영역 상부에 식각 정지막인 질화막을 형성하여 소자분리영역의 손상을 방지하고자 한다. | 질화막 | 손상 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003810 | 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 | 특허청 | 의약학 | 이를 개선하고자, 종래 살리사이드 공정 전에 상기 포토다이오드 부분에 살리사이드 공정 방지막인 HLD 산화막을 형성한다. | 포토다이오드 | HLD 산화막 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003810 | 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 | 특허청 | 의약학 | 상기 도 1a의 게이트 전극을 포함하는 결과물 전면에 600Å 두께의 HDP 산화막을 형성한다. | 600Å 두께 | HDP 산화막 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003810 | 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 | 특허청 | 의약학 | 또한, 로직 부분에서도 두꺼운 두께의 상기 식각 정지막에 대한 식각 공정을 수행하는 동안 웨이퍼의 변동 사항에 의하여 웨이퍼 중앙 부분과 외부 부분에서 약 150Å 두께가 차이난다. | 식각 정지막 | 식각 공정 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003810 | 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법 | 특허청 | 의약학 | 이에 본 발명자들은 활발한 연구 결과 고가의 장비 개발 없이도 상기한 종래의 문제점을 개선할 수 있는 새로운 개념의 BLC 형성 방법을 개발하여 본 발명을 완성하였다. | BLC 형성 방법 | 고가 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003818 | 블랙매트릭스와 이를 포함하는 액정표시장치 | 특허청 | 전기전자 | 일반적으로, 액정표시장치는 액정분자의 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표현하는 것으로, 전계가 인가되면 액정의 배열이 달라지고 달라진 액정의 배열 방향에 따라 빛이 투과되는 특성 또한 달라진다. | 액정표시장치 | 화상 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517003818 | 블랙매트릭스와 이를 포함하는 액정표시장치 | 특허청 | 전기전자 | 상기 박막트랜지스터는 게이트 전극과, 게이트 전극의 상부에 게이트 절연막을 사이에 두고 구성된 반도체층과, 반도체층의 상부에 이격되어 구성된 소스 전극과 드레인 전극을 포함 한다. | 박막트랜지스터 | 게이트 절연막 | isToBe | 가공데이터 |