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| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
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| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 이들 구성요소에 대한 개별 냉각 장치는 일반적으로 공랭식 열교환기 또는 수랭식 열교환기를 사용한다. | 개별 냉각 장치 | 수랭식 열교환기 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 윤활유 시스템은 보통 대형의 공랭식 열교환기를 사용한다. | 윤활유 시스템 | 공랭식 열교환기 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 압축기 인터쿨러는 주위 온도의 물을 사용한다. | 압축기 인터쿨러 | 물 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 변압기 오일은 공랭식 열교환기를 사용하여 열을 대기 중으로 제거함으로써 냉각된다. | 변압기 오일 | 공랭식 열교환기 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 파워 플랜트 시스템(5)은 공기 압축기(10), 가스 터빈(15), 발생기(20) 및 발생기(20)에 결합되어 전기 그리드 시스템(electrical grid system)(30)에 전력을 공급하는 변압기(25)를 포함할 수 있다. | 공기 압축기 | 파워 플랜트 시스템 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 파워 플랜트 시스템(5)은 공기 압축기(10), 가스 터빈(15), 발생기(20) 및 발생기(20)에 결합되어 전기 그리드 시스템(electrical grid system)(30)에 전력을 공급하는 변압기(25)를 포함할 수 있다. | 가스 터빈 | 파워 플랜트 시스템 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 파워 플랜트 시스템(5)은 공기 압축기(10), 가스 터빈(15), 발생기(20) 및 발생기(20)에 결합되어 전기 그리드 시스템(electrical grid system)(30)에 전력을 공급하는 변압기(25)를 포함할 수 있다. | 발생기 | 파워 플랜트 시스템 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 파워 플랜트 시스템(5)은 공기 압축기(10), 가스 터빈(15), 발생기(20) 및 발생기(20)에 결합되어 전기 그리드 시스템(electrical grid system)(30)에 전력을 공급하는 변압기(25)를 포함할 수 있다. | 전기 그리드 시스템 | 파워 플랜트 시스템 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023254 | 일체형 플랜트 냉각 시스템 | 특허청 | 기계공학 | 파워 플랜트 시스템(5)은 공기 압축기(10), 가스 터빈(15), 발생기(20) 및 발생기(20)에 결합되어 전기 그리드 시스템(electrical grid system)(30)에 전력을 공급하는 변압기(25)를 포함할 수 있다. | 변압기 | 파워 플랜트 시스템 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 폴리우레탄 연마 패드, 폴리아미드 연마 패드, 폴리부타디엔 연마 패드 및 폴리올레핀 연마 패드와 같은 중합체 연마 패드는 빠르게 성장하는 전자 산업에서 기판 평탄화를 위해 시판 중인 제품을 대표한다. | 폴리우레탄 연마 패드 | 중합체 연마 패드 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 폴리우레탄 연마 패드, 폴리아미드 연마 패드, 폴리부타디엔 연마 패드 및 폴리올레핀 연마 패드와 같은 중합체 연마 패드는 빠르게 성장하는 전자 산업에서 기판 평탄화를 위해 시판 중인 제품을 대표한다. | 폴리아미드 연마 패드 | 중합체 연마 패드 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 폴리우레탄 연마 패드, 폴리아미드 연마 패드, 폴리부타디엔 연마 패드 및 폴리올레핀 연마 패드와 같은 중합체 연마 패드는 빠르게 성장하는 전자 산업에서 기판 평탄화를 위해 시판 중인 제품을 대표한다. | 폴리부타디엔 연마 패드 | 중합체 연마 패드 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 폴리우레탄 연마 패드, 폴리아미드 연마 패드, 폴리부타디엔 연마 패드 및 폴리올레핀 연마 패드와 같은 중합체 연마 패드는 빠르게 성장하는 전자 산업에서 기판 평탄화를 위해 시판 중인 제품을 대표한다. | 폴리올레핀 연마 패드 | 중합체 연마 패드 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 폴리우레탄 연마 패드, 폴리아미드 연마 패드, 폴리부타디엔 연마 패드 및 폴리올레핀 연마 패드와 같은 중합체 연마 패드는 빠르게 성장하는 전자 산업에서 기판 평탄화를 위해 시판 중인 제품을 대표한다. | 중합체 연마 패드 | 기판 평탄화 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 평탄화를 요구하는 전자 산업 기판은 규소 웨이퍼, 패턴화 웨이퍼, 평면 패널 표시장치 및 자기 저장 디스크를 포함한다. | 규소 웨이퍼 | 평탄화 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 평탄화를 요구하는 전자 산업 기판은 규소 웨이퍼, 패턴화 웨이퍼, 평면 패널 표시장치 및 자기 저장 디스크를 포함한다. | 패턴화 웨이퍼 | 평탄화 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 평탄화를 요구하는 전자 산업 기판은 규소 웨이퍼, 패턴화 웨이퍼, 평면 패널 표시장치 및 자기 저장 디스크를 포함한다. | 평면 패널 표시장치 | 평탄화 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 평탄화를 요구하는 전자 산업 기판은 규소 웨이퍼, 패턴화 웨이퍼, 평면 패널 표시장치 및 자기 저장 디스크를 포함한다. | 저장 디스크 | 평탄화 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 또한, 연마 패드의 평탄화 및 결점도 성능이 전자 공학 산업의 계속된 발전으로 더욱 크게 요구되고 있다. | 연마 패드 | 평탄화 | hasAttribute | 가공데이터 |
| 특허 | A220623023255 | 화학 기계적 연마 패드 | 특허청 | 기계공학 | 또한, 연마 패드의 평탄화 및 결점도 성능이 전자 공학 산업의 계속된 발전으로 더욱 크게 요구되고 있다. | 연마 패드 | 결점도 성능 | hasAttribute | 가공데이터 |