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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.

초기화 COMPONENT RELATION_* RELATION_SEP PATENT_ITEM
출원번호청구항순번청구항 텍스트 (XML)청구항 속성
1019940029516 1 4 <ANY>상기 처리실의 상기 개구부 외측에 설치되며 상기 시료대방향에 대하여 테이퍼상으로 확대된 내면</ANY><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>비자성 도전재료제 중공 원통상의 방전블록</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 1 5 <ANY>상기 방전블록의 타단 개구부에 마이크로파 도입창</ANY><RELATION_24475>을 거쳐 접속된</RELATION_24475> <COMPONENT>원형 도파관</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 1 6 <ANY>상기 원형 도파관내에 설치되어 마이크로파의 튜닝</ANY><RELATION_45>을 행하는</RELATION_45> <COMPONENT>튜닝수단</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 1 7 <ANY>상기 방전블록의 외측</ANY><RELATION_29>에 설치된</RELATION_29> <COMPONENT>솔레노이드코일</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 1 8 <ANY>상기 방전블록내에 처리가스</ANY><RELATION_22>를 공급하는</RELATION_22> <COMPONENT>가스공급수단</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 1 9 <ANY>상기 처리실내를 소정압력으로 감압배기하는</ANY> <COMPONENT>진공배기수단</COMPONENT><RELATION_6>을 구비하는</RELATION_6> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>마이크로파 플라즈마 처리장치</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 1 <ANY>마이크로 플라즈마 처리장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 2 <ANY>피처리기판</ANY><RELATION_174>이 배치되는</RELATION_174> <COMPONENT>시료대</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 3 <ANY>상기 시료대를 내부에 가지고 있으며 상기 피처리기판이 배치되어 있는 상기 시료대의 표면에 대향하는 개구부</ANY><RELATION_15>를 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>처리실과</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 4 <ANY>상기 처리실의 상기 개구부 외측에 설치되며 상기 시료대방향에 대하여 테이퍼상으로 확대된 내면</ANY><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>비자성 도전재료제 중공 원통상의 방전블록</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 5 <ANY>상기 방전블록의 타단 개구부에 마이크로파 도입창</ANY><RELATION_24475>을 거쳐 접속된</RELATION_24475> <COMPONENT>원형 도파관</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 6 <ANY>상기 원형 도파관내에 설치되어 마이크로파의 튜닝</ANY><RELATION_45>을 행하는</RELATION_45> <COMPONENT>튜닝수단</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 7 <ANY>상기 방전블록의 외측</ANY><RELATION_29>에 설치된</RELATION_29> <COMPONENT>솔레노이드코일</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 8 <ANY>상기 방전블록내에 처리가스</ANY><RELATION_22>를 공급하는</RELATION_22> <COMPONENT>가스공급수단</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 3 9 <ANY>상기 처리실내를 소정 압력으로 감압배기하는 진공배기 수단을 포함하고,</ANY> <COMPONENT>상기 방전블록의 내벽면상에 보호부재</COMPONENT><RELATION_134>가 형성되어 있는</RELATION_134> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>마이크로파 플라즈마 처리장치</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 5 1 <ANY>마이크로 플라즈마 처리장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 5 2 <ANY>피처리기판</ANY><RELATION_174>이 배치되는</RELATION_174> <COMPONENT>시료대</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 5 3 <ANY>상기 시료대를 내부에 가지고 있으며 상기 피처리기판이 배치되어 있는 상기 시료대의 표면에 대향하는 개구부</ANY><RELATION_15>를 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>처리실과</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 5 4 <ANY>상기 처리실의 상기 개구부 외측에 설치되며 상기 시료대방향에 대하여 테이퍼상으로 확대된 내면</ANY><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>비자성 도전재료제 중공 원통상의 방전블록</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
1019940029516 5 5 <ANY>상기 방전블록의 타단 개구부에 마이크로파 도입창</ANY><RELATION_24475>을 거쳐 접속된</RELATION_24475> <COMPONENT>원형 도파관</COMPONENT>과 독립항-공개공보 가공데이터
5341–5360번째 행