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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019970053188 | 63 | 2 | <COMPONENT>상기 페데스탈에 놓여있는 진공 처리 챔버의 루프</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 63 | 3 | <ANY>상기 루프상에서 제 1 편평 영역</ANY><RELATION_14>에 배치된</RELATION_14> <COMPONENT>환형 가열 엘리먼트</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 63 | 4 | <ANY>상기 루프상에서 제 2 편평 영역에 배치된</ANY> <COMPONENT>유도 코일</COMPONENT><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>플라즈마 반응기</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 46 | 1 | <ANY>제 1 림을 갖는 제 1 원통형 챔버 몸체 및 제 2 림을 갖는 제 2 원통형 챔버 몸체를 포함하는 플라즈마 반응기의 두 챔버부분 사이의</ANY> <PATENT_ITEM>조인트</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 46 | 2 | <ANY>상기 제 1 림 및 제 2 림 사이에 고정가능한 밀봉 링</ANY><RELATION_1>을 포함하는데</RELATION_1>, <COMPONENT>상기 밀봉링</COMPONENT>은, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 46 | 3 | <ANY>상기 두 챔버 몸체와 함께 축방향</ANY><RELATION_251>으로 연장하는</RELATION_251> <COMPONENT>외부 림</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 46 | 4 | <ANY>상기 외부 림으로부터 상기 제 1 및 제 2 림 사이로 내부 방사상으로 연장하는</ANY> <COMPONENT>내부 립</COMPONENT><RELATION_1>을 포함하며</RELATION_1>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 46 | 5 | <ANY>상기 내부 립 및 상기 제 1 및 제 2 림 사이에 각각 배치된 제 1 및 제</ANY> <COMPONENT>2 탄성 패드</COMPONENT><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>조인트</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 42 | 1 | <ANY>측벽</ANY><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> <COMPONENT>진공 챔버</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 42 | 2 | <COMPONENT>상기 측벽 주위로 감겨진 유도 코일</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 42 | 3 | <ANY>상기 유도 코일에 수직하게 이동하는 직선부 및 상기 직선부의 중앙부분보다 상기 유도코일로부터 더 멀리 위치설정되어 상기 수직부와 접속하는 굴곡부로 이루어진 히터 와이어를 가지며 상기 유도 코일 및 측벽에 인접하게 위치설정된 히터를 포함하며, 그로인해 상기 유도 코일 및 상기</ANY> <COMPONENT>진공 챔버 사이에 선택적으로 패러데이 시일드</COMPONENT><RELATION_20>를 형성하는</RELATION_20> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>플라즈마 처리 챔버</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 28 | 1 | <ANY>챔버내에서 처리되는 기판</ANY><RELATION_423712>을 지지면상에 지지하기 위한</RELATION_423712> <COMPONENT>페데스탈</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 28 | 2 | <ANY>상기 지지면과 대면하는 원뿔형 부분</ANY><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> <COMPONENT>챔버 벽</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 28 | 3 | <ANY>상기 지지된 기판과 대면하며 상기 페데스탈로부터 멀리 떨어진 상기 원뿔형 부분의 림에 배치된</ANY> <COMPONENT>편평 루프</COMPONENT><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>플라즈마 반응기</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 36 | 1 | <ANY>기판이 지지될 수 있는 지지면</ANY><RELATION_423715>을 갖는 챔버의 내부에 배치된</RELATION_423715> <COMPONENT>기판 지지부</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 36 | 2 | <ANY>원뿔형 외면을 가지며 상기 지지면과 대면하는 상기 챔버의 일부</ANY><RELATION_20>를 형성하는</RELATION_20> <COMPONENT>벽</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 36 | 3 | <ANY>상기 벽과 열 제어 엘리먼트 사이의 열을 전도하기 위하여 상기 벽의 원뿔형 외면과 활주가능하게 접촉가능한 원뿔형 내면을 갖는</ANY> <COMPONENT>열 제어 엘리먼트</COMPONENT><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>플라즈마 처리 챔버</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 24 | 1 | <PATENT_ITEM>플라즈마 진공 처리 챔버</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 24 | 2 | <ANY>복수의 점진적으로 연장하는 권선을 갖는 원뿔형 유도 코일을 포함하며, 상기 권선을 접속함으로써 형성된 원뿔형 가상면의 내부는 상기 챔버의 기판 처리 위치와 대면하기 위하여</ANY> <COMPONENT>상기 챔버의 벽</COMPONENT><RELATION_2204>에 평행하게 배치되는</RELATION_2204> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>플라즈마 진공 처리 챔버</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970053188 | 1 | 1 | <ANY>내벽면이 챔버의 기판 처리 위치와 대면하고 있고 원뿔형상의 외벽면이 상기 내벽면과 마주보고 있는 원뿔형 부분</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>챔버 벽</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |