CoT 데이터셋 뷰어
원천데이터

특허 지식베이스 원천데이터

청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.

초기화 COMPONENT RELATION_* RELATION_SEP PATENT_ITEM
출원번호청구항순번청구항 텍스트 (XML)청구항 속성
1020000072667 22 3 <ANY>실질적으로 연속의 병렬로 일정 간격을 두고 분리된 시임들</ANY><RELATION_440641>을 따라 상위 절연체층에 접속된</RELATION_440641> <COMPONENT>하위 절연체층</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 22 4 <ANY>시임에 실질적으로 병렬로 인접하게 놓인 도전체군으로 구성된 중간층으로서, 상기 도전체는 그</ANY> <COMPONENT>위에 접착 잔류물</COMPONENT><RELATION_626611>을 갖지 않는, 상기</RELATION_626611> 중간층<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP>, <PATENT_ITEM>플 랫 케이블</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 1 1 <PATENT_ITEM>플랫 전기 케이블</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 1 2 <ANY>상위 절연체층,</ANY> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 1 3 <ANY>실질적으로 연속의 병렬로 일정 간격을 두고 분리된 시임들</ANY><RELATION_440641>을 따라 상위 절연체층에 접속된</RELATION_440641> <COMPONENT>하위 절연체층</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 1 4 <ANY>시임들에 실질적으로 병렬로 인접하게 놓인 도전체들의 개개의 스트랜드들로 구성된 중간층으로서, 상기 도전체들은 그 위에 접착 잔류물을 갖지 않고, 인접한 도전체들 사이에 위치하는 시임들은 텍스춰된 표면 패턴을 갖고, 플랫 전기 케이블의 에지들을 따라 위치하는 시임들은 실질적으로 평활한</ANY> <COMPONENT>표면 패턴</COMPONENT><RELATION_5>을 갖는,</RELATION_5> 상기 중간층<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>플랫 전기 케이블</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 47 1 <ANY>초음파 용접기 상에 설치하기 위한</ANY> <PATENT_ITEM>모듈러 회전</PATENT_ITEM> 앤빌<RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 47 2 <ANY>초음파 용접기</ANY><RELATION_6927>에 부착되도록 구성된</RELATION_6927> <COMPONENT>제 1 말단 세그먼트</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 47 3 <ANY>초음파 용접기</ANY><RELATION_6927>에 부착되도록 구성된</RELATION_6927> <COMPONENT>제 2 말단 세그먼트</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1020000072667 47 4 <ANY>제 1 측면 및 제 2 측면을 갖는 적어도 하나의 삽입편으로서, 상기 제 1 측면 및 제 2 측면 각각은 다른 삽입편들, 상기 제 1 말단 세그먼트 및 제 2 말단 세그먼트 중의 적어도</ANY> <COMPONENT>하나</COMPONENT><RELATION_6927>에 부착되도록 구성되는,</RELATION_6927> 상기 적어도 하나의 삽입편<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP>, <PATENT_ITEM>모듈러 회전 앤빌</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 1 1 <ANY>반도체 장치에 포함되는</ANY> <PATENT_ITEM>퓨즈 소자</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 1 2 <ANY>배리어 금속층 및 상기 배리어 금속층 위</ANY><RELATION_146>에 위치되는</RELATION_146> <COMPONENT>노말 금속층을 포함하 는 비노출 영역</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 1 3 <ANY>레이저 빔을 조사하기 위한 영역으로서, 상기 배리어 금속층은 포함하나, 상기 노말 금속층</ANY><RELATION_69038>은 에칭된</RELATION_69038> <COMPONENT>노출 영역</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 1 4 <ANY>상기 반도체 장치내의 회로와의 접속을 위한 다수의 콘택들로서, 상기 다수의 콘택들 중에서 일부의 콘택은 상기 노출영역에 속하는 노출형 콘택이고, 나머지 콘택은 상기 비노출 영역에 속하는</ANY> <COMPONENT>비노출형 콘택인 상기 다수의 콘택들</COMPONENT><RELATION_6>을 구비하는</RELATION_6> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>퓨즈 소자</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 2 1 <PATENT_ITEM>반도체 장치</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 2 2 <COMPONENT>노말 메모리셀 어레이</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 2 3 <ANY>상기 메모리 셀 어레이의 불량 메모리 셀</ANY><RELATION_440828>을 대체하기 위한 리던던시 메모리셀어레이</RELATION_440828> 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 2 4 <ANY>상기 불량 메모리셀로의 경로를 차단하고, 대응하는 리던던시 메모리 셀로 데이터를 입출력시키기 위한</ANY> <COMPONENT>다수의 퓨즈들</COMPONENT><RELATION_8>을 구비하며</RELATION_8>, 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 2 5 <COMPONENT>상기 다수의 퓨즈들의 각각</COMPONENT>은 독립항-공개공보 가공데이터
1020000073486 2 6 <ANY>배리어 금속층 및 상기 배리어 금속층 위에 위치되는 노말 금속층</ANY><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> <COMPONENT>비노출 영역</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
11741–11760번째 행