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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019840002373 | 9 | 2 | <COMPONENT>상기 스파이더상에 감겨진환상코일</COMPONENT>과 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002373 | 9 | 3 | <COMPONENT>상기 축으로부터 맞은편 방사상 방향으로 개구하고 상기 스파이더의 다수의 베어링 면들에 접촉하여 배치된 극편들에 인접하여, 상기 코일과 양걸침 관계로 상기 스파이더에 장치되고, 상기 벽들과 함께 상기 스파이더의 외부로 부터 내부까지 연장하는 다수의 냉각로를 한정하고 있는 다수의 u형 극편들</COMPONENT>과 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002373 | 9 | 4 | <ANY>다수의 냉각공기 흡입 및 배출부를 가지고 있고, 상기 스파이더에 연결되고, 상기 극편들의 방사상으로의 외부 방향으로의 이동을 못하게 그리고 상기 고정자에 구조적 견고성</ANY><RELATION_397679>을 제공하게 하도록 적용된</RELATION_397679> <COMPONENT>고정자 하우징</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002373 | 9 | 5 | <RELATION_357597>으로 구성하고 있는</RELATION_357597> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>전자기의 고정자</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002695 | 1 | 1 | <ANY>ic칩을 전기접속기에 연결시키는데 적합한 직접회로모듈</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002695 | 1 | 2 | <ANY>전기접속기에 연결하기 위한 접점연을 가지는 비전도성 기판과, 기판의 제1표면에 적층된 다수의 리드를 갖는 전도성 리드프레임을 구비하고, 상기 리드는 ic칩에 연결하기 위한 내부팁과 기판의 접점연을 따라 공간을 두어 관계하여 적층된 전기속접기를 접촉하는</ANY> <COMPONENT>외부접점단</COMPONENT><RELATION_15>을 가지는</RELATION_15> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>직적회로모듈</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002695 | 31 | 1 | <ANY>ic칩과 최소한 하나이상의 외부전기성분을 전기접속기에 연결시키는데 적합한 직접회로모율</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840002695 | 31 | 2 | <ANY>전기접소기에 연결하기 위한 접점연을 지닌 리드를 가지며, 외부전기성분을 장착하는 수단을 가지는</ANY> <COMPONENT>리드프레임중 최소한 한개이상의 리드</COMPONENT><RELATION_6>를 구비하는</RELATION_6> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>직접회로모듈</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 15 | 1 | <ANY>목표물이 y축 방향으로 움직일 때 목표물을 갈로질러 x축방향으로 반복적으로 다수개의 비임이 스위프되어 상의 스와드부분을 형성하는 패턴발생기와 함께 쓰이며, 상기 스와드내에 놓인 다각형의 변을 표현하는 맨끝의 x축 좌표에 따라서 분류되는 벡터의 형태로 상데이터를 이용하기 위해 응용된 실시간 처리 장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 15 | 2 | <ANY>시리즈로 연결된 다수개의 비임처리장치와 각각이 상기 다수개의 비임중 각각의 하나와 연관되며, 거기에는 상기 비임처리장치의 각각과 연관된 점버퍼가 존재하며, 상기 벡터는 비임처리장치의 상기 시리즈의 첫 번째에 상기 분류된 순서</ANY><RELATION_397885>로 공급되는 파이프라인으로</RELATION_397885> <COMPONENT>이루어지며, 상기 비임처리장치의 각각</COMPONENT>은 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 15 | 3 | <ANY>상기 처리장치가 연관된 비임이 상기 비임의 편향동안 그 벡터에 대응하는 변과 교차를 하는가를 상기벡터로부터 확인하는 수단과, 만일 상기 비임이 교차한다면 작동되는, 상기 변교차점을 지날 때 상기 비임이 켜지느냐 꺼지느냐의 지시를 상기 점버퍼내로 집어넣는 수단과, 이웃하는 비임사이의 x 축간격에 대응하는 양만큼 상기 맨끝의 y축 좌표값을 변화시키기 위해 상기 벡터를 수정하며, 상기 벡터에 의해 표현되는 변의 기울기에 따라서 y축 끝좌표를 비례해서 수정하기 위한 잠식(nibbling)수단으로 이루어지며, 결과된 잠식된 벡터는 상기 파이프라인을 따라서</ANY> <COMPONENT>상기 비임처리장치와 다음</COMPONENT><RELATION_32429>으로 지나가는</RELATION_32429> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>실시간 처리장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 11 | 1 | <ANY>"상기 상을 형성하기 위하여 목표물의 연속적인 블록을 가로질러 다수개의 비임이 스위프되는 레이저 또는 다른 패턴발생기에 의해 실시간내에서 사용가능한 벡터형식으로 다각형의 조합체를 표현하는 입력상 데이터를 수정하기 위한 데이터 전처리장치 시스템</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 11 | 2 | <ANY>상기 입력다각형 데이터를 각각이 상기 다각형의 변을 나타내고, 상기 다각형의 주변을 따라 시계방향 또는 시계반대방향으로 순서된 예비벡터의 세트로 바꾸며, 상기 순서의 방향에서 상기 예비벡터의 시작과 끝점의 상대적인 y축값에 따라서 상기 벡터의 각각을 ""입구"" 또는 ""출구""벡터로 형성하기 위한 제1의 수단, 상기 패턴발생기에 의해 목표물상에 발생되는 스와드의 한 시리즈의 각각내에 들어가는 상기 변의 부분과 연관된 마지막 벡터로 상기 예비벡터를 변환시키기 위한 제2수단, x축 끝점에 따라서 각각의 이러한 스와드내에서 상기 마지막 벡터를 분류하기 위한 수단과, 상기 스위프된 비임을 위한 변조베어신호를 생성하기 위해서 상기 분류된</ANY> <COMPONENT>마지막 벡터</COMPONENT><RELATION_397887>를 이용하는 수단으로 이루어지는</RELATION_397887> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>데이터 전처리장치 시스템."</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 10 | 1 | <ANY>x축을 따라 상호적으로 상쇄되고 목표물이 x방향으로 움직임에 따라 목표물의 부분을 가로질러 y축을 따라 반복적으로 스위프되어 연속적인 일반적으로 평행사변형 모양의 블록의 스와드를 지나 스위프하는 다수개의 비임을 가지는 패턴발생기와 함께 쓰기위한 상기 비임의 실시간 변조에 대한 기울어짐이 보정된 비트맵을 생성하는 시스템</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 10 | 2 | <ANY>상기 비임의 y축위치에 대응하는 위치내에서 결과되는 상을 발생시키기 위해서 비임이 켜져야 되는가 꺼져야 되는가를 표시하는 정보로 이루어진 비트맵 프리커서 데이터를 제1 및 제2 프리커서 기억장치내에 교대적으로 설정시키기 위한 비트맵 프리커서 기억장치수단, 상기 상의 두 이웃하는 기울어지지 않은 보정된 블록부분에 대한 상기 제1 및 제2 프리커서 기억장치로부터 비트맵 프리커서 데이터가 공급되는 한 세트의 버퍼, 이웃하는 기울어지지 않은 보정된 블록부분에 대한 비트맵 프리커서 데이터를 포함하는 상기 버퍼의 기울어진 부분으로부터 데이터를 판독하기 위한 배럴시프터 수단과, 상기 목표물을 가로지르는 상기 비임의 실제 스위프동안 상기 판독데이터에 따라</ANY> <COMPONENT>상기 비임</COMPONENT><RELATION_616966>을 변조시키는 변조수단으로 이루어지는</RELATION_616966> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>상기 비임의 실시간 변조에 대한 기울어짐이 보정된 비트맵 데이터를 생성시키는 시스템</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 24 | 1 | <ANY>상기 입력데이터가 패턴발생기에 의해 한 스트립(strip)씩 발생되는 패턴을 형성하는 다수의 사변형을 나타내는, 입력데이터로부터 비트맵을 형성하기 위한</ANY> <PATENT_ITEM>데이터 변환기</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 24 | 2 | <ANY>상기 사변형의 변의 데이터 표현을 발생된 패턴의 각 스트립내에서 각각이 상기 변의 절단된 부분을 나타내는 절단된 변벡터부분으로 부분화시키고, 표현된 절단된 변부분의 상대적 끝위치에 따라서 각각의 이같은 벡터부분에 켜짐/꺼짐특성</ANY><RELATION_397888>을 할당시키기 위한</RELATION_397888> <COMPONENT>처리절단수단</COMPONENT>과 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003249 | 24 | 3 | <ANY>절단된 변벡터부분으로부터 벡터부분의 켜짐/꺼짐특성에 대해서 설정되는 각 사진요소 위치에서 비트맵값을 가진, 각 스트립내의 각 사변형 부분의 비트맵 표현과 상기 절단된 변벡터부분에 의해 표현된 변부분에 대해서 상기 스트립내의 상기 사진요소위치의 상대적 위치의 비트맵표현을 형성하기 위한</ANY> <COMPONENT>비트맵 처리수단</COMPONENT><RELATION_19>으로 이루어지는</RELATION_19> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>데이터 변환기</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003641 | 20 | 1 | <ANY>용해도 조절부가제 부재하의 용매시스템</ANY><RELATION_6683>에 용해되는</RELATION_6683> <COMPONENT>양보다 과량의 리튬염</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840003641 | 20 | 2 | <ANY>과 리튬염의 용해도를 증가시키기에 효과적이 양의 금속양이온 착화합물, 4급암모늄양이온 및 유기포스포늄 양이온 중에서 선택한</ANY> <COMPONENT>양이온</COMPONENT><RELATION_624198>을 최소한 하나 함유하는</RELATION_624198> 염<RELATION_SEP>으로 이루어진</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>용해도 조절부가제를, 이산화황을 주성분으로 하는 비-수성용매 시스템에 용해시켜 제조한 조성물을 함유하는 전해질, 리튬음극 및 양극집전장치로 구성된 전기화학 전지</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |