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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019840008417 | 1 | 1 | <ANY>제 1 도전형</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>반도체기판(10p)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 1 | 2 | <ANY>상기 기판위에 형성되며 상기 제 1 도전형과 반대의 제 2 도전형</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>제 1 반도체영역(12n)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 1 | 3 | <ANY>상기 제 1 반도체 영역내에 형성되며 상기 제 1 도전형</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>제 2 반도체영역(14p+)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 1 | 4 | <ANY>상기 제 2 반도체 영역밑의 상기 반도체기판과 상기 제1반도체영역사이에 형성되며 상기 제1반도체영역내의 불순물 농도보다 더높은 불순물농도</ANY><RELATION_5>를 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>상기 제 2 도전형의 고농도 매입영역(18n+)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 1 | 5 | <ANY>및 상기 고농도 매입영역과 다른 상기 제1반도체영역내에 형성되며, 상기 제1도전형을 가지며, 상기 반도체기판(10p)으로부터 상기 제 2 반도체영역(14p+)을 향하여 돌출되어 있는</ANY> <COMPONENT>제 3 반도체영역(20(p+),22(p+)</COMPONENT><RELATION_19>으로 이루어지는</RELATION_19> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>반도체장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 6 | 1 | <ANY>제 1 도전형</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>반도체기판(10p)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 6 | 2 | <ANY>상기 기판위에 형성되며 상기 제 1 도전형과 반대의 제 2 도전형</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>제1반도체영역(12n)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 6 | 3 | <ANY>상기 제 1 반도체영역내에 형성되며 상기 제 1 도전형</ANY><RELATION_5>을 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>제2반도체영역(14p + )</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 6 | 4 | <ANY>상기 제 2 반도체영역밑의 상기 도체기판과 상기 제 1 반도체영역사이에 형성되며 상기 제 1 반도체 영역내의 불순물 농도보다 더높은 불순물농도</ANY><RELATION_5>를 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>상기 제 2 도전형의 고농도 매입영역(18n + )</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 6 | 5 | <ANY>및 상기 고농도 매입영역과 다른 상기 제</ANY> <COMPONENT>1 반도체영역내</COMPONENT><RELATION_43>에 형성되며</RELATION_43> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008417 | 6 | 6 | <ANY>상기 제 1 도전형을 가지며, 상기 제 2 반도체영역(14p + )으로부터 상기 반도체기판(10p)을 향하여 돌출되어 있는</ANY> <COMPONENT>제 3 반도체영역</COMPONENT><RELATION_19>으로 이루어지는</RELATION_19> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>반도체장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008518 | 13 | 1 | <ANY>선택된 항 중 한 항에 따른</ANY> <PATENT_ITEM>배면 투영 스크린</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008518 | 13 | 2 | <ANY>스크린의 배면부상의 광조준 수단을 영상 투사기에서 나온 발산광선을 수신하여 상기 광선을 상기 스크린에 의해표시되어지는 영상 표시인</ANY> <COMPONENT>평행 광선</COMPONENT><RELATION_397228>으로 조준시키는</RELATION_397228> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>배면 투영 스크린</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008518 | 1 | 1 | <PATENT_ITEM>배면 투영 스크린</PATENT_ITEM>의 정면에서 영상원에서 나온광선을 수신하여 상기 각 광선을 편향하는 광 확산수단을 구비하여 광시청각에 대해서 실제로 균일한 휘도로 상기 영상을 표시를 하고, 상기 광학산 수단은 일반적으로 면밀한 공간을 두고 떨어져 있는 다수의 평행 렌티큘러렌즈를 구비하고, 상기 렌티큘러 렌즈의 적어도 어느 정도는 베이스부와 제1 측부와 제2 측부 및 상기 제1측부에 대향하는 팁부로 이루어진 배면투영 스크린<RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008518 | 1 | 2 | <ANY>상기 제1 측부는 상기 베이스부에 대해서 약43°에서 85°사이의 평균 기울기를 갖고, 상기 제2 측부는 상기 베이스부에 대해서 약 43°에서 85°사이의 평균기울기를 갖고, 상기 제1평균기울기 및 상기 제2평균기울기는 상기 제1측부 및 상기 제2측부가 실제로 내부적</ANY><RELATION_397233>으로 반사되도록 선택되고</RELATION_397233>, <COMPONENT>상기 렌즈의 높이대 상기 베이스부의 너비의 비는 1</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008518 | 1 | 3 | <ANY>1</ANY><RELATION_239>보다 크고</RELATION_239> <COMPONENT>상기 베이스부의 너비대 상기 팁부 너비의 비는 2</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019840008518 | 1 | 4 | <ANY>1보다 크고, 상기 팁부는 상기 제1 측부와 제2측부와 접촉하고, 상기 팁부는 두개의 볼록한 실린더부 중앙이 오목한 실린더부를 구비하고</ANY> <COMPONENT>상기 팁부는 실제로 굴절됨</COMPONENT><RELATION_373>이 있는</RELATION_373> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>배면 투영 스크린</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019850000052 | 1 | 1 | <ANY>입력 샘플링 주파수 fi가 연관된 일련의 입력샘플 x(q),q=…,-2,-1,0,1,2,3,…로 형성된 시간이산 입력신호를 출력 샘플링 주파수 fu가 연관되고 입력 샘플링 주파수 fi보다 높은 r배인 일련의 출력 샘플 y(n),n=…,-2,-1,0,1,2,3,…으로 형성된 시간이산 출력신호로 변환하는 무리수 보간인수 r을 갖는 보간용 시간이산 필터장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019850000052 | 1 | 2 | <ANY>a) 상기 입력 샘플링 주파수 fi에서 나타나는 입력클럭펄스 ki(q)를 발생하는 제1수단과, b) 상기 출력 샘플링 주파수 fu에서 나타나는 출력클럭펄스 ku(q)를 발생하는 제2수단과, c) w필터계수군을 발생하는 필터계수발생기와, 발생기는 c 1 ) 입력클럭펄스 및 출력클럭펄스가 인가되고 각 입력클럭펄스 ki(q)에 응답하여 상기 입력클럭펄스 ki(q)와 바로 차후 또는 바로 계속되는 출력클럭펄스 사이에 위치된 시간간격 td(q)과 두 연속 출력클럭펄스 사이의 시간간격 tu=1/fu간의 관계에 비례하는 크기를 갖는 편차성분 d(q)을 공급하는 수단과, c 2 ) 편차성분 d(q)에 응답하여 w 필터 계수군을 발생하는 수단을 구비하고 있으며, 수 w</ANY> <RELATION_397243>를 갖는 필터계수는 a(d(q),w)와 동일하고</RELATION_397243> <COMPONENT>표현식</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019850000052 | 1 | 3 | <COMPONENT>a(d(q),w)=h(d(q)tu+wtu)</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |