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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019970031254 | 14 | 3 | <ANY>상기 챔버내에 질화 티타늄의 소스</ANY><RELATION_110>를 제공하기 위한</RELATION_110> <COMPONENT>수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 14 | 4 | <ANY>사이 질화 티타늄을 이온화하기 위해 rf 에너지로 상기 플라즈마</ANY> <RELATION_622864>를 에너지화하기 위한</RELATION_622864> <COMPONENT>rf 코일 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 14 | 5 | <ANY>및 지배적으로 (200)와 (111)가 되는 결정 방향을 가지는 질화 티타늄막을 형성하기 위해 상기 기판상에 상기 이온화된 질화 티타늄을 증착하기 위한</ANY> <COMPONENT>수단</COMPONENT><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>기판상의 질화 티타늄 막 증착 장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 20 | 1 | <ANY>상부 표면과 후면을 가지는 기판상에 스퍼터링된 재료를 증착하기 우한 장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 20 | 2 | <ANY>플라즈마와 재료</ANY><RELATION_139137>가 스퍼터링되는</RELATION_139137> <COMPONENT>타겟을 포함하는 스퍼터링 챔버</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 20 | 3 | <ANY>상기 스퍼터링된 재료의 적어도 1% 이상을 이온화하기 위해 rf 에너지로 상기 플라즈마</ANY> <RELATION_622865>를 에너지화하도록 배치된</RELATION_622865> <COMPONENT>rf 코일</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 20 | 4 | <ANY>및 기판을 지지하기 위한</ANY> <COMPONENT>부재</COMPONENT><RELATION_418967>를 포함하며, 상기 부재는 접지되는</RELATION_418967> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>기판상의 스퍼터링된 재료 증착 장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 13 | 1 | <ANY>기판상의 티타늄 증착 장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 13 | 2 | <ANY>플라즈마, 티타늄 타겟, 및 상기 타겟으로부터 티타늄을 스퍼터링하기 위한 수단</ANY><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> <COMPONENT>스퍼터링 챔버</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 13 | 3 | <ANY>상기 스퍼터링된 티타늄 원자를 이온화하기 위해 rf 에너지로 상기 플라즈마</ANY> <RELATION_622864>를 에너지화하기 위한</RELATION_622864> <COMPONENT>rf 코일 수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 13 | 4 | <ANY>및 지배적으로 (002)가 되는 결정 방향을 가지는 티타늄 막을 형성하기 위해 상기 기판상에 상기 이온화된 티타늄을 증착하기 위한</ANY> <COMPONENT>수단</COMPONENT><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>기판상의 티타늄 막 증착 장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 9 | 1 | <ANY>상부 표면과 후면을 가지는 기판상에 스퍼터링된 재료를 증착하기 위한 장치</ANY><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 9 | 2 | <ANY>스퍼터링 재료용 타겟을 가지고 플라즈마</ANY> <RELATION_622867>를 포함하기 위한</RELATION_622867> <COMPONENT>스퍼터링 챔버</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 9 | 3 | <ANY>상기 스퍼터링된 재료의 적어도 1% 이상을 이온화하기 위해 rf 에너지로 상기 플라즈마</ANY> <RELATION_622866>를 이온화하도록 배치된</RELATION_622866> <COMPONENT>rf 코일</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031254 | 9 | 4 | <ANY>및 자유 부동 전위에 있는</ANY> <COMPONENT>기판 지지용 부재</COMPONENT><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>증착 장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031572 | 1 | 1 | <ANY>리드프레임이 적재된 메가진</ANY><RELATION_23157>을 순차적으로 이송하는</RELATION_23157> <COMPONENT>메가진이송장치</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031572 | 1 | 2 | <ANY>상기 메가진이송장치에 의해 이송된 리드프레임</ANY><RELATION_419015>을 메가진에서 분리 상승시키는</RELATION_419015> <COMPONENT>제 1 엘리베이터장치</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031572 | 1 | 3 | <ANY>상기 제 1 엘리베이터장치가 하강하여 다음 리드프레임을 적재하고 상승할 때까지 중간에서 리드프레임</ANY><RELATION_419014>을 인계받아 연속으로 상승시키는</RELATION_419014> <COMPONENT>제 2 엘리베이터장치</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031572 | 1 | 4 | <ANY>상기 제 2 엘리베이터장치에 의해 상승된 리드프레임</ANY><RELATION_419013>을 개별 흡착하여 이송하는</RELATION_419013> <COMPONENT>픽커이송장치</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970031572 | 1 | 5 | <ANY>상기 픽커이송장치에서 운반된 리드프레임</ANY><RELATION_419012>을 후속공정설비로 낱개 이송하는</RELATION_419012> <COMPONENT>인레일이송장치</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |