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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019970058869 | 43 | 5 | <ANY>상기 반도체 영역에 조사된 측정광의 반사율</ANY><RELATION_23>을 검출하는</RELATION_23> <COMPONENT>반사율 검출수단</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 43 | 6 | <ANY>상기 반사율 검출수단의 출력을 수신하여 상기 반도체 영역에 여기광이 조사되어 있을 때와 여기광이 조사되어 있지 않을 때의 측정광 반사율의 차를 상기 여기광이 조사되어 있지 않을 때의 측정광의 반사율로 나눈 값을 측정광 반사율의 변화 비율</ANY><RELATION_6682>로서 연산하는</RELATION_6682> <COMPONENT>변화 연산수단</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 43 | 7 | <ANY>상기 가공 처리수단에 의한 가공처리의 진행 중에 상기 변화 연산수단의 출력을 수신하고, 상기 반사율의 변화 비율에 기초하여 상기 가공처리 조건을 제어하는</ANY> <COMPONENT>가공처리 제어수단</COMPONENT><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>반도체 장치의 제조장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 1 | <ANY>기판의 반도체 영역 상에 형성된 절연막의 전기적 특성을 평가하기 위한</ANY> <PATENT_ITEM>광학적 평가장치</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 2 | <ANY>여기광</ANY><RELATION_9>을 생성하는</RELATION_9> <COMPONENT>제 1 광원</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 3 | <ANY>측정광</ANY><RELATION_9>을 생성하는</RELATION_9> <COMPONENT>제 2 광원</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 4 | <ANY>상기 제 1 광원에서 생성된 여기광을 상기 절연막을 통과시켜 그 바로 아래의 반도체 영역에 간헐적</ANY><RELATION_16068>으로 조사시키기 위한</RELATION_16068> <COMPONENT>제 1 광 안내부재</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 5 | <ANY>상기 제 2 광원에서 생성된 측정광을 상기 절연막을 통과시켜 상기 여기광이 간헐적으로 조사되어 있는 반도체 영역</ANY><RELATION_16068>에 조사시키기 위한</RELATION_16068> <COMPONENT>제 2 광 안내부재</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 6 | <ANY>상기 반도체 영역에 조사된 측정광의 반사율</ANY><RELATION_23>을 검출하는</RELATION_23> <COMPONENT>반사율 검출수단</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 7 | <ANY>상기 반도체 영역으로부터 반사된 측정광을 상기 반사율 검출수단</ANY><RELATION_13058>에 입사시키기 위한</RELATION_13058> <COMPONENT>제 3 광 안내부재</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 8 | <ANY>상기 반사율 검출수단의 출력을 수신하여 상기 반도체 영역에 여기광이 조사되어 있을 때와 여기광이 조사되어 있지 않을 때의 측정광 반사율의 차를 상기 여기광이 조사되어 있지 않을 때의 측정광의 반사율로 나눔으로써 측정광 반사율의 변화 비율</ANY><RELATION_187>을 연산하는</RELATION_187> <COMPONENT>변화 연산수단</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970058869 | 22 | 9 | <ANY>상기 측정광 반사율의 변화 비율의 대소에 기초하여 상기 절연막의 전기적 특성을 평가하는</ANY> <COMPONENT>평가 수단</COMPONENT><RELATION_3>을 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>광학적 평가장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060325 | 1 | 1 | <PATENT_ITEM>처리 장치</PATENT_ITEM>로서, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060325 | 1 | 2 | <ANY>(a) 그 내부에 형성된 다수의 독립 챔버</ANY><RELATION_5>를 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>외장체</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060325 | 1 | 3 | <ANY>(b) 각각의 처리 챔버내</ANY><RELATION_146>에 위치된</RELATION_146> <COMPONENT>가스 분배 조립체</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060325 | 1 | 4 | <ANY>(c) 다수의 독립 챔버</ANY><RELATION_12>에 연결된</RELATION_12> <COMPONENT>가스 공급원</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060325 | 1 | 5 | <COMPONENT>(d) 각각의 가스 분배 조립체</COMPONENT><RELATION_12>에 연결된</RELATION_12> 전력 공급원<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>처리 장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060896 | 1 | 1 | <ANY>고정체의 상부에 고정체에 대하여 좌우회전이 가능하도록 설치된 회전프레임과, 송수광기를 지지하고, 상기 회전프레임에 대하여 상기 송수광기의 상하경사각을 조절하도록 상기 회전프레임의 상부에 조립되는 경사프레임을 구비하여 상기 송수광기의 상하좌우 지향각</ANY><RELATION_423897>을 1차 조절하는</RELATION_423897> <COMPONENT>거시각조절수단</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060896 | 1 | 2 | <ANY>상기 송수광기와 상기 거시각조절수단 사이에 설치되고, 상기 송수광기의 상하지향각을 조절하는 상하각조절부와, 상기 송수광기와 상기 거시각조절수단 사이에 설치되고, 상기 송수광기의 좌우지향각을 조절하는 좌우각조절부</ANY><RELATION_6>를 구비하는</RELATION_6> <COMPONENT>미시각조절수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970060896 | 1 | 3 | <RELATION_60>을 포함하여 이루어지는</RELATION_60> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>레이저 광 전송시스템의 마운팅장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |