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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.
| 출원번호 | 청구항 | 순번 | 청구항 텍스트 (XML) | 청구항 속성 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 1019970708370 | 1 | 2 | <COMPONENT>상기 처리챔버</COMPONENT><RELATION_422117>에 작용하도록 연결된</RELATION_422117> 동축의 마이크로파 생성 어셈블리<RELATION_SEP>로 이루어진</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>마이크로파 장치</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 1 | <COMPONENT>상부 외부셸</COMPONENT>; | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 2 | <COMPONENT>하부 외부셸</COMPONENT>; | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 3 | <ANY>상기 상부 외부셸</ANY><RELATION_12>에 연결된</RELATION_12> <COMPONENT>상부 마이크로파 에너지 안내수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 4 | <ANY>상기 하부 외부셸</ANY><RELATION_12>에 연결된</RELATION_12> <COMPONENT>하부 마이크로파 에너지 안내수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 5 | <ANY>상기 상부 마이크로파 에너지 안내수단</ANY><RELATION_12>에 연결된</RELATION_12> <COMPONENT>상부 마이크로파 에너지 분산수단</COMPONENT> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 6 | <ANY>상기 하부 마이크로파 에너지 안내수단</ANY><RELATION_12>에 연결된</RELATION_12> <COMPONENT>하부 마이크로파 에너지 분산수단</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970708370 | 25 | 7 | <COMPONENT>상기 상부 외부셸과 상기 하부 외부셸</COMPONENT><RELATION_422127>을 모두 해제가능하게 유지하는</RELATION_422127> 클램프<RELATION_SEP>로 이루어진</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>마이크로파 폐기물 살균기</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709438 | 1 | 1 | <COMPONENT>전동기</COMPONENT>; | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709438 | 1 | 2 | <ANY>전달부재를 통해 상기 전동기와 연결되고 그 외면 주위에 설치된 드러스트 베어링</ANY><RELATION_423243>에 의해 회전 이동 되는</RELATION_423243> <COMPONENT>볼 너트</COMPONENT>; 및 | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709438 | 1 | 3 | <ANY>상기 볼 너트와 결합하고 일단부가 실린더 케이스로부터 돌출되는 볼</ANY> <COMPONENT>나사</COMPONENT><RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>전동 실린더</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 1 | <ANY>매우 작은 크기를 가지는 기판 접촉부 안으로 물질의 층을 스퍼터 증착하기 위한</ANY> <PATENT_ITEM>스퍼터 증착 시스템</PATENT_ITEM><RELATION_PRE><RELATION_2>에 있어서</RELATION_2></RELATION_PRE>, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 2 | <COMPONENT>진공 챔버</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 3 | <ANY>상기 챔버 안으로 가스</ANY><RELATION_21>를 제공하는</RELATION_21> <COMPONENT>가스 공급부</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 4 | <ANY>이온을 포함하는 스퍼터링 플라즈마 안으로 상기 가스</ANY><RELATION_28465>를 여기시키기 위한</RELATION_28465> <COMPONENT>여기 시스템</COMPONENT>과, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 5 | <ANY>작은 크기를 갖는 접촉부를 구비한 기판을</ANY><RELATION_423601>, 챔버 안쪽에서, 지지하기 위한</RELATION_423601> <COMPONENT>지지부</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 6 | <ANY>상기 기판 지지부에 대향한 챔버 내에서 증착 물질의 타깃을 지지하기 위한 타깃 지지부로서, 기판의 표면 위와 접촉부 안으로 증착시키기 위하여, 스퍼터링 플라즈마로부터의 이온이 타깃과 충돌하고, 물질 입자들을 생성하도록, 상기 타깃</ANY><RELATION_423598>을 바이어스시키기 위해 작동 가능한</RELATION_423598>, <COMPONENT>타깃 지지부</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 7 | <ANY>기판 접촉부 내부의 균일한 증착을 증진시키고, 기판 접촉부의 빈 공간이 없는 충진을 증진시키기 위하여, 상기 타깃 지지부와 상기 기판 지지부 사이에 배치되고, 상기 기판 표면에 소정의 각도로 입사되는 스퍼터된 입자</ANY><RELATION_4709>를 차단하도록 구성된</RELATION_4709> <COMPONENT>콜리메이터</COMPONENT>와, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 8 | <ANY>접촉부내의 과잉 증착을 감소시키고, 접촉부 내의 균일한 증착을 추가로 증진시키기 위하여, 스퍼터링 플라즈마로부터의 이온이 기판 표면과 충돌하고 스퍼터 증착과 동시에 표면을 효과적으로 에칭하며, 접촉부 내에 증착된 입자를 재분배하도록, 스퍼터 증착 시에 상기 기판을 바이어스시키도록 상기 기판</ANY><RELATION_10240>에 작동 가능하게 결합되는</RELATION_10240> <COMPONENT>전기적인 바이어스 시스템을 포함함</COMPONENT>으로서, | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |
| 1019970709767 | 9 | 9 | <ANY>매우 작은 종횡비를 가지는 기판은, 물질 층으로 균일하게 코팅될 수 있고, 빈 공간의 수가 감소된</ANY> <COMPONENT>물질</COMPONENT><RELATION_363674>로 채워질 수 있는</RELATION_363674> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>스퍼터 증착 시스템</PATENT_ITEM> | 독립항-공개공보 | 가공데이터 |