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청구항 목록 (server1). 청구항 텍스트의 태그를 그대로 표시합니다. "가공데이터"를 누르면 해당 출원의 CoT 가공 결과가 팝업으로 열립니다.

초기화 COMPONENT RELATION_* RELATION_SEP PATENT_ITEM
출원번호청구항순번청구항 텍스트 (XML)청구항 속성
1019997003829 1 5 <ANY>상기 아날로그 대 디지털 변환기에 연결되어, 이득 제어 신호</ANY><RELATION_435872>를 상기 증폭기에 제공하기 위한</RELATION_435872> <COMPONENT>자동 이득 제어 회로</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997003829 1 6 <ANY>상기 i/q 복조기로부터 i 및 q 데이터를 수신하기 위한 저역통과 필터 회로 - 상기 i 및 q 데이터</ANY><RELATION_435871>는 데시메이트됨(decimated)</RELATION_435871> - 독립항-공개공보 가공데이터
1019997003829 1 7 <ANY>상기 데시메이트된 i 및 q 데이터를 제1 비율(rate)로 수신하고 재샘플링된 i 및 q 데이터</ANY><RELATION_435869>를 제2 비율로 출력하는</RELATION_435869> <COMPONENT>재샘플링 회로</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997003829 1 8 <ANY>상기 재샘플링 회로에 연결되어, 상기 보호 간격의 경계</ANY><RELATION_435868>를 탐지(locating) 하기 위한</RELATION_435868> <COMPONENT>fft 윈도우 (window) 동기화 회로</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997003829 1 9 <ANY>상기 fft 윈도우 동기화 회로와 동작되게 연관된 실시간 파이프라인 fft 프로세서 (real-time pipelined fft processor) - 상기 fft 프로세서는 적어도 한개의 스테이지를 구비하며, 상기 스테이지는 복소수 계수 곱셈기, 및 상기 복소수 계수 곱셈기에서 곱해지는 승수가 내부에 정의된 룩업 테이블 (lookup table)을 갖는 메모리</ANY><RELATION_1>를 포함하되</RELATION_1>, <COMPONENT>상기 승수 각각의 값은 상기 룩업 테이블에서 유일함</COMPONENT> -; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1019997003829 1 10 <ANY>상기 fft 윈도우 동기화 회로에 응답하여, 활성화 심볼과 보호 간격 사이의 경계가 탐지 되었음을 나타내는 소정의 이벤트 (event)</ANY><RELATION_135>를 검출하기 위한</RELATION_135> <COMPONENT>모니터 회로</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997003829 1 11 <RELATION_3>를 포함하는</RELATION_3> 것<RELATION_SEP>을 특징으로 하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>수신기</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 39 1 <ANY>플라즈마를 담기 위해 내부를 규정하는 용기로서, 이 용기의 내부와 통하고 있고 원자들의 소스와 연결가능한 입구, 및 하전입자빔이 자신을 통하여 방전가능한 개구</ANY><RELATION_6>를 구비한</RELATION_6> <COMPONENT>용기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 39 2 <ANY>용기 내부의 원자들과 통하고 있고 용기에서의 원자들의 이온화</ANY><RELATION_433074>를 초래하고 플라즈마를 창출하는</RELATION_433074> <COMPONENT>에너지발생기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 39 3 <ANY>용기의 내부에 배치된 것으로, 활동적인 표면, 상기 활동적인 표면 및 전압소스 간을 연결가능한 도선을 포함하고, 전극의 활동적인 표면과 맞물려 하전입자원의 동작 동안에 상기 활동적인 표면을 청소하는 수단</ANY><RELATION_2527>을 추가로 구비한</RELATION_2527>, <COMPONENT>전극조립품</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 39 4 <ANY>용기개구에 인접하게 배치되어 전극과 동일한 극성을 갖는 플라즈마로 발생된 하전입자들을 용기로부터 가속시키며</ANY> <COMPONENT>반대 극성의 하전입자들</COMPONENT><RELATION_433063>을 용기 내부에 유지시키는</RELATION_433063> 이온광학기조립품<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>하전입자원</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 66 1 <ANY>내부를 규정하여 플라즈마를 담는 용기로서, 용기의 내부에 통하고 있으며 원자들의 소스에 연결가능한 입구, 및 자신을 통해 이온빔이 방전가능한 개구</ANY><RELATION_6>를 구비한</RELATION_6> <COMPONENT>용기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 66 2 <ANY>용기 내부의 원자들과 통하고 있으며 용기 내의 원자들의 이온화</ANY><RELATION_433074>를 초래하고 플라즈마를 창출하는</RELATION_433074> <COMPONENT>에너지발생기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 66 3 <ANY>용기개구에 인접하게 배치된 것으로, 제 1그리드부재가 플라즈마와 접촉하고 있는, 복수개 개구들을 갖는 제 1 및 제 2공간이격된 전도성그리드부재들, 상기 제 1그리드부재를 양 또는 음의 전압소스에 연결시키는 수단, 및 상기 제 2그리드부재를 음의 전압소스에 연결시키는 수단</ANY><RELATION_6>을 구비한</RELATION_6>, <COMPONENT>이온광학기조립품</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 66 4 <ANY>제 1부분 및 제 2부분을 갖는 기간의 제 1부분 동안에 제 1그리드부재에 인가되어진 전위가 약 10 및 약 2000v 사이가 되며, 이 기간의 제 2부분 동안에 제 1그리드부재에 인가되어진 전위가 제 2그리드에 연결가능한 음의 전위가 되는 한 기간에 걸쳐,</ANY> <COMPONENT>제 1그리드부재에 펄스전위</COMPONENT><RELATION_22>를 공급하는</RELATION_22> 수단<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>이온빔소스</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 81 1 <ANY>내부를 규정하여 플라즈마를 담는 것으로, 용기의 내부와 통하고 있으며 원자들의 소스와 연결가능한 입구, 및 자신을 통해 이온빔이 방전가능한 개구</ANY><RELATION_5>를 갖는</RELATION_5> <COMPONENT>용기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 81 2 <ANY>용기 내부의 원자들과 통하고 있고, 용기 내의 원자들의 이온화</ANY><RELATION_433131>를 초래하며 플라즈마를 창출하는</RELATION_433131> <COMPONENT>에너지발생기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 81 3 <ANY>용기개구에 인접하게 배치된 것으로, 제 1그리드부재는 플라즈마와 접촉하고 있으며, 제 2전도성그리드부재는 상기 제 1그리드부재로부터 이격되고 제 3바깥쪽그리드는 전기적인 접지에 연결가능한, 복수개 개구들을 갖는 세 개의 전도성그리드부재들, 상기 제 1그리드부재를 양의 전압소스 또는 전기적인 접지에 연결시키는 수단, 및 상기 제 2그리드를 음의 전압소스 또는 전기적인 접지에 연결시키는 수단</ANY><RELATION_6>을 구비한</RELATION_6>, <COMPONENT>이온광학기조립품</COMPONENT>; 및 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 81 4 <ANY>제 1기간부분 동안, 상기 양의 전위가 상기 제 1그리드에 공급되며, 상기 음의 전위가 상기 제 2그리드에 공급되고 상기 접지전위가 상기 제 3그리드에 공급되고, 제 2기간부분동안, 상기 제 1, 제 2 및 제 3그리드들에 접지전위가 공급되도록, 제 1 및 제 2부분들을 갖는 한 기간의 시간에 걸쳐, 상기 전위들을 상기 제 1, 제 2 및 제</ANY> <COMPONENT>3그리드들</COMPONENT><RELATION_144>에 공급하는</RELATION_144> 수단<RELATION_SEP>을 포함하는</RELATION_SEP> <PATENT_ITEM>이온빔소스</PATENT_ITEM> 독립항-공개공보 가공데이터
1019997004124 72 1 <ANY>내부를 규정하여 플라즈마를 담는 용기로서, 용기의 내부와 통하고 있으며 원자들의 소스에 연결가능한 입구, 및 자신을 통해 이온빔이 방전가능한 개구</ANY><RELATION_6>를 구비한</RELATION_6> <COMPONENT>용기</COMPONENT> 독립항-공개공보 가공데이터
10421–10440번째 행