최종산출물
특허 지식베이스 최종산출물
workset 2026-10-29-2-final · 표의 분류를 누르면 해당 조건으로 목록이 필터링됩니다. uuid를 클릭하면 상세 내용이 팝업으로 열립니다.
분류(category)별 통계
전체 15,000건
검색결과 1,392건
분류: 화학(C섹션) ✕
| uuid | 출원번호 | 제목 | 출원연도 | IPC | 분류 |
|---|---|---|---|---|---|
| f0321da3-0824-5c96-ae5d-5ae14e30c368 | 1019990014020 | 화학 기상 증착장치의 하부 전극부 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| eb058d3c-53b0-5831-93a2-ba98b2c2e080 | 1019990014021 | 화학 기상 증착장치의 하부 전극부 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| 86c17da1-eb33-5ee3-b1eb-05aa491d18f3 | 1019990015960 | 반도체 종형로설비 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| 3216bb9a-df51-51b5-a0c5-ffcb69b66f2c | 1019990022177 | 화학기상증착 설비 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| 313d8206-a4bc-5839-9565-f14c27708176 | 1019990026595 | 반도체 웨이퍼 홀딩 장치 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| 5c269f68-4c79-5337-9fd7-34af7a51b8d4 | 1019990043798 | 진공 막형성장치 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| f072ac16-bab5-55cb-bfb2-e24537da8667 | 1019990056648 | 반도체 웨이퍼 홀딩 장치 및 그 방법 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| ae3fcfdc-5ebb-5f58-9112-75811738243a | 1019990057583 | 반도체 스퍼터링 공정용 타겟 마그네트 조립체 | 1999 | C23C | 화학(C섹션) |
| f4517674-8ab9-5785-b234-906d9295f565 | 1019990057947 | 유전율의 온도계수 Ｘ７Ｒ를 높게 향상시킨세라믹캐패시터 및 그 제조분말 | 1999 | C04B | 화학(C섹션) |
| 04776afd-edc8-5338-8380-67c54c7c58d1 | 1020000000031 | 화학 기상 성장 장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 205fe82c-7b4e-5049-afc2-4eb2b256ef7e | 1020000002183 | 반도체 제조 설비의 공정 챔버 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 6c6680e7-4f4d-5650-919f-93488168a495 | 1020000003715 | 화학 기상 증착 장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| edc2acb0-5ad4-51d2-aa7f-3bb8736cc736 | 1020000008424 | 박막 증착에 사용 및 재사용하기 위한 열분사에 의한스퍼터 타깃의 제조 및 재충전 방법 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| d910ce08-0008-5876-acfe-23df62049f09 | 1020000013794 | 플라즈마 ＣＶＤ 막 형성장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 594d3b88-f47d-5c3a-9133-da65c8898230 | 1020000016328 | 금속의 부식 방지제, 이를 함유한 세정액 조성물 및 이를사용한 세정 방법 | 2000 | C11D | 화학(C섹션) |
| bdafb71f-dd38-583b-9ec1-2b7e6d07a704 | 1020000019574 | 성막처리방법, 열처리 방법 및 열처리 장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 2d79c4d6-12a1-5fdd-8efa-bec2ab95e530 | 1020000037395 | 일체형 서셉터를 구비하는 화학 기상 증착 챔버 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 5a7bc2e0-42b7-53b6-ac84-becb22538804 | 1020000051113 | 화학기상 증착장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| c4aa95ff-2994-517d-bb55-ee0989b63c4a | 1020000054600 | 부도체로 이루어진 샤워헤드를 구비하는 ＨＤＰㅡＣＶＤ장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| eb7c9050-7332-5795-8be6-c1264558df48 | 1020000058530 | 파티클 감소 기능을 가지는 대면적 마그네트론스퍼터링장치 및 이를 이용한 마그네트론 스퍼터링방법 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |