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CoT 가공 결과 목록 (server2). document_id(=출원번호)를 클릭하면 추론 과정이 팝업으로 열립니다.
| document_id | 제목 | 분류 | 문맥 | 청구항 속성 | 연도 | IPC |
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| 1020147004321 | 유전체 에칭에 대한 음이온 제어 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 하부 전극에 커플링된 하부 무선 주파수 (rf) 신호 생성기로서, 상기 하부 rf 신호는 제1 페이즈 (phase) 로 설정되는, 상기 하부 rf 신호 생성기 상부 ... | 공개공보 | 2012 | H05H 1/46 |
| 1020147004544 | 개선된 플라즈마 이온 에너지 처리 시스템들에 대한 웨이퍼 처킹 시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 스위칭 모드 파워 서플라이는 플로팅 상태에 있고, 상기 dc 옵셋은 스위칭 모드 파워 서플라이 외측에서 발생되는, 플라즈마-기반 처리위한시스템.... | 등록공보 | 2012 | H01J 37/30 |
| 1020147005287 | 광전자 디바이스 패키지, 어레이 및 제조 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 캐소드, 상기 애노드 및 애노드 버스 라인이상기에지밀봉구역의비투명부분통해연장되는광전자 디바이스 패키지. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 애노... | 공개공보 | 2012 | H01L 51/52 |
| 1020147005527 | 시분할 다중화 신호들을 교환하기 위한 네트워크 요소 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,제어및/또는 oam 메시지들을 갖는 셀들은 상기 제어 시스템(cs) 및 상기 회선 카드들(lc1 내지 lcn)내 기능 엔티티들을 어드레스 지정하는... | 등록공보 | 2012 | H04L 12/70 |
| 1020147005887 | 대량 생산용으로 인덕션 가열에 의한 연료전지 전극의 소결 및 전해액 파우더를 가진 다공성 전극을 함침하기 위한 방법 및 제조 장치 | 화학(C섹션) | [청구항 14] 연료전지용 전해액 함침 전극을 제조하기 위한 제조 장치에 있어서 상기 장치는 인덕션 가열 시스템을 포함하며 상기 인덕션 가열 시스템은: 피가열 전극부재를 지지하며 ... | 공개공보 | 2012 | H01M 4/88 |
| 1020147006659 | 전기 모터 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 전기 모터(5)는 에나멜 절연된 접속 콘택(33)들을 갖는 간섭 억제 유도자(32)를 포함하며, 상기 접속 콘택들은 절연 변위 터미널 콘택(3... | 공개공보 | 2012 | H02K 5/22 |
| 1020147008887 | 비수성 유기 전해질, 이러한 전해질을 가진 리튬 이온 2차 전지, 리튬 이온 2차 전지의 제조 방법 및 단말 통신 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] (1) 리튬염; (2) γ-부티로락톤 및 식(i)으로 표시되는 포화 환형 에스테르 화합물을 포함하는 비수성 유기 용매 식(i) 식(i)에서, x 1 은 c, s, 또... | 공개공보 | 2012 | H01M 10/0567 |
| 1020147012222 | 온도 제어 방법, 제어 장치 및 플라즈마 처리 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 10] 복수의 스텝에 의해 피처리체를 처리하는 플라즈마 프로세스에서 스텝마다 설정 온도를 바꾸는 것이 가능한 플라즈마 처리 장치의 제어 장치로서, 상기 플라즈마 처리 장치... | 공개공보 | 2012 | H01L 21/3065 |
| 1020147012364 | 플라즈마 처리 장치용 유전체창 및 플라즈마 처리 장치 | 화학(C섹션) | [청구항 1] 마이크로파를 플라즈마원으로 하는 플라즈마 처리 장치에 구비되고, 원판형이며, 상기 마이크로파를 전파하는 플라즈마 처리 장치용 유전체창으로서, 상기 플라즈마 처리 장치... | 등록공보 | 2012 | H05H 1/46 |
| 1020147012828 | 스택 조립체 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1항에 있어서,가요성-인터페이스-고정장치의 휨 강성이 20℃에서 0,01nm 내지 5000nm, 바람직하게 0,1nm 내지 1000nm, 바람직하게 1nm 내지 ... | 공개공보 | 2011 | H01M 8/24 |
| 1020147014392 | 전기화학 전지를 위한 폴리우레탄-기반 전극 바인더 조성물 및 이의 전극 | 화학(C섹션) | [청구항 2] 제 1항에 있어서,도전재가 카본 블랙, 니켈 분말, 또는 이들의 조합물포함하는,전극 바인더 조성물. [청구항 3] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 폴리(디알킬렌... | 공개공보 | 2012 | H01M 4/62 |
| 1020147015285 | 송신 장치, 수신 장치, 송신 방법, 및 수신 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 1] ofdm 신호를 복수의 송신 안테나를 사용하여 송신하는 송신 장치로서, 송신 신호를 iq평면에 매핑하여, 캐리어 변조를 실시한 캐리어 심볼을 생성하도록 구성된 매핑부... | 공개공보 | 2012 | H04L 27/26 |
| 1020147016366 | 스퓨리어스-모드 억제 압전 공진기 설계 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 압전 공진기는 반도체 다이집적되는,압전 공진기. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,패스밴드의 중심 주파수는 실질적으로 400mhz와 실질적으... | 공개공보 | H03H 9/02 | |
| 1020147016618 | 반도체 적층체 및 그 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 반도체 디바이스, 도펀트 조성물, 도펀트 주입층, 그리고 도프층의 형성 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 20] (a) 기재, (b) 상기 기재 상에 적층되어 있는 실리콘 입자로 만들어져 있는 미소결 실리콘 입자층, (c) 상기 미소결 실리콘 입자층 상에 적층되어 있는 광 투... | 공개공보 | 2013 | H01L 21/20 |
| 1020147018167 | 인터리빙을 수행하기 위한 시스템들, 방법들 및 디바이스들 | 전기(H섹션) | [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 하나 이상의 공간 스트림들을 전송하도록 구성되는 하나 이상의 안테나들더 포함하는,무선 통신 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 인터리버는... | 등록공보 | 2012 | H04L 27/26 |
| 1020147019491 | 무전해 구리 증착 | 전기(H섹션) | [청구항 34] 장치로서, 플라즈마 프로세싱 챔버로서, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버는, 플라즈마 프로세싱 챔버 인클로저를 형성하는 챔버 벽 상기 플라즈마 프로세싱 챔버 인클로저 내... | 공개공보 | H01L 21/285 | |
| 1020147019926 | 분리된 이온 및 라디칼 제어를 위한 소스를 이용한 반도체 프로세싱 시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 플라즈마 발생 마이크로챔버로서, 플라즈마 발생 영역의 상부 경계를 형성하는 하부 면을 갖는 상부 전극 상기 플라즈마 발생 영역의 하부 경계를 형성하는 상부 면을 갖는... | 공개공보 | 2012 | H01L 21/3065 |
| 1020147021227 | 컴퓨팅 디바이스와 통신할 수 있는 대화형 베이스 및 토큰 | 전기(H섹션) | [청구항 6] 서버로서, 통신 서브시스템으로서: 등록 정보를 컴퓨팅 디바이스로부터 수신하되, 상기 등록 정보는 스마트 토큰을 식별하는 토큰 식별자 및 스마트 베이스를 식별하는 베이... | 공개공보 | 2012 | H04L 12/16 |
| 1020147022616 | 인쇄회로 기판 및 그 제조장치 및 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 도금액을 수용한 제 1 도금조를 포함하는 제 1 도금장치와, 상기 제 1 도금조 도금액에 침지되어 그 표면에 제 1 회로 패턴 도금층이 형성되는 동시에 회동가능하게 ... | 등록공보 | 2013 | H05K 3/20 |
| 1020147022840 | 전역 실시간 통신을 위한 장치, 소프트웨어 모듈, 시스템 또는 영업 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 3] 제1항에 있어서,프로그램을 실행하는 프로세서를 더 포함하고,상기 프로그램은,서비스 제공자로부터의 인증 요청에 응답,서비스 제공자로부터의 검증 요청에 응답,통신 참여자... | 공개공보 | 2013 | H04L 29/12 |