가공데이터
특허 지식베이스 가공데이터
CoT 가공 결과 목록 (server2). document_id(=출원번호)를 클릭하면 추론 과정이 팝업으로 열립니다.
| document_id | 제목 | 분류 | 문맥 | 청구항 속성 | 연도 | IPC |
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| 1020100044711 | 광원의 특성을 이용한 이미지 처리 장치 및 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 이미지 센서 모듈은 이미지의 해상도에 맞게 배열된 복수의 이미지 센서로 이루어진 이미지 센서 어레이를 포함하고,상기 수광 모듈은 적어도 하나의 ... | 공개공보 | 2010 | H04N 9/73 |
| 1020100045474 | 유기 발광 소자 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 적색 발광층에서 호스트는, 비스{2-(2-하이드록시페닐)벤조티아졸레이트}아연 및 비스-(2-메틸-8-퀴놀리노에이트)-4-(페닐페노에이트)알루미늄... | 공개공보 | 2010 | H01L 51/54 |
| 1020100046403 | 와이파이망을 이용한 위치 인식 시스템 및 위치 인식 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 4] 위치인식 어플리케이션이 저장되어 있고, 상기 위치인식 어플레이션을 통해 사용자의 위치정보를 제공하는 위치인식자가 저장되어 있는 복수의 사용자 단말기 상기 위치인식자로... | 등록공보 | 2010 | H04W 64/00 |
| 1020100047278 | 가공전선 배전용 배전반 지지완철 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 전주(p)에 설치되며, 전기를 분배하는 배전반(d)이 설치되는 수평부(110) 수평부(110)의 상부에 설치되는 스크류구동장치설치부(120) 수평부(110)에 설치되... | 등록공보 | 2010 | H02G 7/05 |
| 1020100047469 | 광학 구성요소들 상에 감소된 에너지 밀도를 갖는 펄스 스트레처 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 폴드 거울은 상기 제 1 및 제 2 공초점 거울들 사이등거리에 있는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 ... | 등록공보 | 2010 | H01L 21/027 |
| 1020100047990 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 멀티 플라즈마 디스플레이 패널 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 스캔 전극 및 서스테인 전극이 배치되는 전면기판 상기 전면기판에 대항되게 배치되는 후면기판 상기 후면기판에 배치되는 하부 어드레스 전극 상기 하부 어드레스 전극의 상... | 공개공보 | 2010 | H01J 17/49 |
| 1020100048482 | 콘텐트 가상 세그멘테이션 방법과, 이를 이용한 스트리밍 서비스 제공 방법 및 시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 11] 원본 콘텐트 파일을 저장하기 위한 콘텐츠 저장부 상기 원본 콘텐트 파일을 소정의 시간길이 단위로 구분할 때 확보될 수 있는 다수의 세그먼트들 각각에 대한 시각정보와... | 등록공보 | ||
| 1020100050489 | 유기 발광 표시 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 봉지 기판은 탄소 복합체제조되는유기 발광 표시 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 봉지 기판은 수지 매트릭스와 복수의 탄소 섬유를 포함하... | 등록공보 | 2010 | H01L 51/52 |
| 1020100050664 | 플라즈마 세정 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 대기압 하에서 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 세정하는 플라즈마 세정 장치로서, 챔버와, 상기 챔버 내에 설치되어 상기 웨이퍼가 안착되는 적재판과, 상기 적재판의 상부에... | 공개공보 | 2010 | H01L 21/302 |
| 1020100050759 | 커넥터 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 잠금부가, 상기 하우징 내에 있어서, 당해 하우징에 상기 판상 부재 삽입부를 통해서 삽입된 배선 판상 부재에 설치된 계합부에 계합하여 당해 배선... | 등록공보 | 2010 | H01R 12/71 |
| 1020100051192 | 태양전지모듈용 라미네이팅 장치 및 그 장치를 이용한 라미네이팅 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 라미네이팅부는 상기 태양전지모듈의 상면을 가압하되 진공흡착할 수 있도록 진공흡기구가 설치된 상부챔버;와, 상기 로딩부 및 언로딩부와 연결되도록... | 공개공보 | 2010 | H01L 31/042 |
| 1020100052369 | 다수개의 반도체 레이어가 적층 된 반도체 메모리 장치 및 시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 다수 개의 반도체 레이어들이 적층 된 3차원 메모리 장치에 있어서, 상기 다수 개의 반도체 레이어들은 동일한 메모리 셀 구조를 가지며, 시스템 데이터를 저장하기 위한... | 공개공보 | 2010 | H01L 21/8239 |
| 1020100053214 | 연속 공정 수행이 가능한 플라즈마 반응장치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 기판을 투입시키는 기판로딩존과, 상기 기판 상부면에 박막층을 증착시키는 증착부, 및 상기 증착부로부터 이송되는 기판을 외부로 배출하는 기판언로딩존으로 구성하되, 상기... | 공개공보 | 2010 | H01L 31/18 |
| 1020100053358 | 반도체 패키지 및 이를 갖는 적층 반도체 패키지 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 상면에 접속 패드가 형성되고 하면에 볼랜드가 형성된 기판 상기 기판 상에 실장되며 본딩 패드가 형성된 반도체 칩; 및 상기 기판과 상기 반도체 칩 사이에 형성되며 상... | 공개공보 | 2010 | H01L 23/12 |
| 1020100053836 | 반도체 장치 및 그 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 다수의 셀영역과 상기 셀영역 사이에 배치된 주변회로영역 상기 주변회로영역에 형성된 도전층 상기 셀영역 및 주변회로영역을 덮는 플레이트전극 상기 플레이트전극을 관통하여... | 공개공보 | 2010 | H01L 27/108 |
| 1020100054486 | 이차 전지 및 이의 제조 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 집전판은상기 제 1 전극과 접촉하는 제 1 연장부; 및상기 제 1 연장부의 상단부에서 절곡 연장되며, 상기 캡 조립체의 하단과 접촉하... | 공개공보 | 2010 | H01M 2/02 |
| 1020100054714 | 배선위치 조정용 전선관 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 일단부가 지중에 매립되고, 타단부가 배전반(1)의 지지플레이트(1-1)와 상호 연통되며, 양단에는 플랜지(11a)가 형성된 원통형상의 전선보호부재(11)와 전선보호부... | 등록공보 | 2010 | H02G 15/013 |
| 1020100055948 | 연속주조법을 이용한 실리콘 박판 제조 장치 및 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 유도 용융 방식으로 실리콘 원료를 용융시키는 것을 특징으로 하는 연속주조법이용한실리콘 박판 제조 장치. [청구항 3] 제2항에 ... | 공개공보 | 2010 | H01L 31/18 |
| 1020100057149 | 자기 캐패시터를 구비한 ＤＲＡＭ셀 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 주 면을 구비한 반도체 재료를 갖는 기판 상기 주 면에 형성된 트랜지스터; 및 상기 트랜지스터 상에 위치한 금속층내에 형성된 자기 캐패시터 를 포함하는 dram셀로서... | 공개공보 | 2010 | H01L 27/108 |
| 1020100057552 | 극판용 라미네이팅 장치 및 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 극판에서 상기 활물질층은 상기 집전 기재의 하면에 패터닝되어 형성되며 이웃하는 제 1 끝단부와 제 2 끝단부를 포함하는 제 1 활물질층 및 ... | 등록공보 | 2010 | H01M 10/04 |