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CoT 가공 결과 목록 (server2). document_id(=출원번호)를 클릭하면 추론 과정이 팝업으로 열립니다.
| document_id | 제목 | 분류 | 문맥 | 청구항 속성 | 연도 | IPC |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1019910011311 | 무정류자 직류전동기 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 경사파형신호발생회로는 상기 역기전력검출회로로부터 출력된 펄스신호열의 주기에 응해서 시간적인 경사각도를 변화시키도록구성된것을특징으로 하는무정류자 ... | 공개공보 | 1991 | H02P 6/04 |
| 1019910011477 | MIS형 반도체장치 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 드레인영역에는 드레인전극이 형성되고, 상기 소스영역과 상기 인출영역 양측에는 소스전극형성되는반도체장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 소스... | 등록공보 | 1991 | H01L 29/772 |
| 1019910011609 | CMOS 반도체장치 및 그 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기제1mos트랜지스터들은 nmos트랜지스터들이고, 상기 제2mos트랜지스터들은 pmos트랜지스터들인것을특징으로하는반도체장치. [청구항 3] 제2항에... | 공개공보 | 1991 | H01L 27/08 |
| 1019910011627 | 메모리 셀의 증가된 정전용량을 갖는 반도체 메모리장치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 상부 주요 표면을 가지며, 주영역(메모리 셀 영역)으로 한정되어지는 반도체 기판(11) 기판의 상부 주요표면을 따라 제1방향으로 서로 병렬이 되게 뻗쳐있는 다수의 워... | 공개공보 | 1991 | H01L 27/108 |
| 1019910012351 | 플라즈마 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 처리용기내에 플라즈마 를 발생시키기 위한 플라즈마 발생수단과 상기 플라즈마 발생수단에 의해 상기 처리용기내에 발새되는 플라즈마를 회전시키고, 이동시키는 것에 의해 피... | 등록공보 | 1991 | H05H 1/02 |
| 1019910012615 | 기판처리장치간의 기판수도용 인터페이스 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 상기 단일 구동기구는; 수직으로 연장가능한 로드를 가진 단일에어 실린더와 하부 직선부와 상부 만곡부를 가지는 캠홈을 규정하고 수직으로 이동가능하게 된 상기 로드에 접... | 공개공보 | 1991 | H01L 21/68 |
| 1019910012747 | 차등 압력 스위치 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 폐쇄단부들에 제1 및 제2유체 흡입부들을 가지는 하우징과 상기 하우징안에 밀봉되도록 배치되고, 상기 폐쇄단부들중 한쪽과 상기 제1유체 흡입부에 소통하는 제1유체 쳄버... | 공개공보 | 1991 | H01H 35/34 |
| 1019910013174 | VHF/UHF(초고주파/극초단파)반응기시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 플라즈마 처리 반응기에 있어서 (a) 플라즈마 챔버를 한정하는 벽을 가진 하우징 (b) 웨이퍼 지지 위치를 한정하는, 상기 플라즈마 챔버내의 웨이퍼 지지 원통형 전극... | 등록공보 | 1991 | H05H 1/46 |
| 1019910013211 | 액정칼라투사장치 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,다이크로익 미러와 액정판넬은 상기 광원으로 부터의 광입사면을 상기 봉재에직접접촉고정함을특징으로 하는액정 칼라 투사장치. [청구항 3] 제 1 항에... | 공개공보 | 1991 | H04N 9/31 |
| 1019910013437 | 진동 피구동 모터 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 제2전기신호는상기제1전기신호와시간적위상차가지는것을특징으로 하는진동피구동모터. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 시간적 위상차는 90°어긋난것을... | 공개공보 | 1991 | H02K 7/00 |
| 1019910013566 | 직교변환 부호화장치 | 전기(H섹션) | [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 양자화기 선택수단은, 대블록에 형성된 소블록을 앞에서부터 j번째까지의 양자화기를 형성하는 전반부 및 나머지의 후반부로 분할하는 단계... | 공개공보 | 1991 | H04N 19/60 |
| 1019910013960 | 우주전파 수신용 초냉각 수신기 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 피드호온(4), 제1믹서(5), 제1단향관(6), 및 제1증폭수단(7)의 동작시 온도에 따른 잡음을 최소화 하기 위하여 상기 피드 호온(4), ... | 공개공보 | 1991 | H04B 7/155 |
| 1019910013971 | PLL 회로 및 PLL 회로를 사용한 반도체 집적 회로 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 입력신호와 피드백 신호의 위상을 비교하는 위상 비교수단(2,3)으로 이루어지는 전원에 연결된 위상 동기루프(pll)회로에 있어서 상기 위상 비교수단(2,3)에 연결되... | 공개공보 | 1991 | H03K 19/00 |
| 1019910014192 | 가변회로 파라미터를 갖는 D/A 변환기 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 디지탈 입력신호를 아날로그 출력 신호로 변환하기 위한 d/a변환수단(17,22,23)을 포함하는 d/a변환기에 있어서 상기한 d/a변환수단에 연결되고, 상기 아날로그... | 공개공보 | 1991 | H03M 1/66 |
| 1019910014265 | 전기적으로 프로그램 할 수 있는 내부전원 발생회로 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 전압 감지부가 상기 패드에 각각 채널이 직렬 연결되고 각각 다이오드 접속된 소정 갯수의 부하용 모오스 트랜지스터와, 상기 모오스 트랜지스터의 채... | 공개공보 | 1991 | H01L 27/04 |
| 1019910014473 | 반도체 웨이퍼용 증기 건조기 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 상부에 개방부를 가지는 좁은 쳄버를 형성하는 수단과 안에 있는 액체를 증발시키도록 상기 쳄버의 바닥에 있는 가열수단과 물체가 상기 쳄버위에 있는 제1위치에 있는 상승... | 공개공보 | 1991 | H01L 21/304 |
| 1019910014534 | 반도체장치의 게이트산화막 형성법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 반도체기판을 질소분위기에서 1차 어닐하는 살기 공정 이전에, 상기 반도체기판의 표면을 알칼리 세정하는공정추가하는것을특징으로 하는반도체 장치의 게... | 공개공보 | 1991 | H01L 21/283 |
| 1019910014583 | 세퍼레이터와 밀폐형 납축전지 | 전기(H섹션) | [청구항 3] 제2항에 있어서,의 가압시 겉보기 밀도가 0.155g/cm3 이하로 되고 60kg/dm2의 가압시에는겉보기 밀도3이하로되는것을특징으로 하는세퍼레이터. [청구항 5] ... | 공개공보 | 1991 | H01M 2/16 |
| 1019910014984 | 진공처리장치 및 그 운전방법 | 전기(H섹션) | [청구항 25] 제24항에 있어서,상기 반송수단은 공기중에 배치된 제 1의 반송수단과 진공중에 배치된 제 2의반송수단포함하는것을특징으로 하는진공처리장치. [청구항 26] 제24항에... | 등록공보 | 1991 | H01L 21/304 |
| 1019910015109 | 고정 또는 가변 길이 데이타 블럭으로 구성된 버퍼 메모리 기억 데이타를 포함하는 일시 정보 기억 시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,1개의 출구가 다수의 목적지에 속할 수 있고, 상기 데이타 블럭 선택 수단(osqrl)이, 소정의 출구가 속하는 출력 목적지를 식별하고, 전송될 적어... | 등록공보 | 1991 | H04L 12/56 |