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분류(category)별 통계
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검색결과 1,392건
분류: 화학(C섹션) ✕
| uuid | 출원번호 | 제목 | 출원연도 | IPC | 분류 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2eeb5412-614c-58e2-b28c-c03cf8b775d5 | 1020000074701 | 반도체 제조장치용 웨이퍼 가공장치 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 9a1d7ec0-07f7-5c3e-879d-76fc5edfe92c | 1020000079372 | 화학기상 증착장비 | 2000 | C23C | 화학(C섹션) |
| 699aaa77-5fb6-5658-a9f7-05e0d126bd5d | 1020010007030 | 플라즈마화학증착 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| da8e5d13-b0b8-59ff-a603-d5a3111cc97b | 1020010007070 | 반도체 장치의 제조를 위한 증착 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 8d70428a-e9ac-5f5e-8d98-9ffd9e1424af | 1020010009852 | 마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 19066ebc-0927-514b-b84b-1222b99438b6 | 1020010019335 | 화학기상증착장치의 히터블럭 승하강장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 6daf7005-bac4-5353-87b2-8d610b8596a7 | 1020010022740 | 반도체 장치의 제조를 위한 증착 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 63b2eac0-b2fd-5abd-81be-58c3961f2eae | 1020010026228 | ＣＶＤ 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 37149232-d549-5544-97a2-d1827f87ca75 | 1020010026756 | 가스 분사 판을 구비하는 반도체 장치의 제조설비 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| cfceb838-f2e4-5c2a-a528-4438b4149665 | 1020010031707 | 반도체 장치 제조용 절연막 증착 장비 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| a4bc48f0-a60c-572c-817c-016ac9b8a68a | 1020010045003 | 반도체 소자의 세정액 및 이를 이용한 세정 방법 | 2001 | C11D | 화학(C섹션) |
| 4e9961c1-72f8-57a5-a9b5-68a4cf01a405 | 1020010047751 | 플라즈마 증착 장비의 구조 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 9cead237-7bd8-5766-ac5a-2e9e9092784b | 1020010054341 | 퀄츠 튜브 세정장치 | 2001 | C23C 16/44 | 화학(C섹션) |
| 3bada29c-a01e-5938-93cd-86e5e220cc2e | 1020010055067 | 화학기상증착장치 및 그의 잔류물 제거방법 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 44a93826-1504-5392-9fb0-b07ed4883813 | 1020010055198 | 균일하게 가스분사가 이루어지는 샤워헤드와유도가열방식에 의해 서셉터 상부의 온도를 균일하게가열하는 수직형 화학기상증착 반응기 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 2727dbf5-eede-5f93-a029-36bd935d938c | 1020010061514 | 반도체 장치 제조를 위한 증착 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| a17f9c5b-1912-5559-b8a5-67d5fe169444 | 1020010061599 | 화학기상증착 장치의 가스 인젝터 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 804f08c6-8b73-5d00-8860-d492aa302043 | 1020010065216 | 평판 표시 소자의 제조 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| dd01bec4-592f-580b-91d3-a362bb6bb586 | 1020010074866 | 고주파 인가형 반도체 장치 제조 장비 및 이를 이용한공정 챔버 세정 방법 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |
| 1eebb4e9-4d28-5980-9dee-2049245bde35 | 1020010078167 | 화학 기상 증착 장치의 리프트 장치 | 2001 | C23C | 화학(C섹션) |